【发明公布】正型抗蚀剂组成物及图案形成方法_信越化学工业株式会社_202010148552.2 

申请/专利权人:信越化学工业株式会社

申请日:2020-03-05

发明/设计人:松井良宪;提箸正义;金子达志;关明宽;渡边聪

公开(公告)日:2020-09-15

代理机构:北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)

公开(公告)号:CN111665684A

代理人:刘新宇;李茂家

主分类号:G03F7/004(20060101)

地址:日本东京都

分类号:G03F7/004(20060101);G03F7/039(20060101);G03F7/00(20060101)

优先权:["20190306 JP 2019-040330"]

专利状态码:在审-公开

法律状态:2020.09.15#公开

摘要:本发明涉及正型光阻抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题是提供PED稳定性优异、DOF特性优异、LWR良好、可形成拖尾受到抑制的形状的图案的正型抗蚀剂组成物、及使用该正型抗蚀剂组成物的图案形成方法。一种正型抗蚀剂组成物,含有:A下式1表示的第1鎓盐化合物;B下式2表示的第2鎓盐化合物;C基础聚合物,该基础聚合物含有下式a表示的含酸不稳定基团的重复单元、及视需要的下式b表示的含酸不稳定基团的重复单元,且其碱溶解性会因酸而改善但是,含有下式b表示的含酸不稳定基团的重复单元时,酸不稳定基团的碳数为14以上者在全部重复单元中为5摩尔%以下的话,则亦可含有。;及D有机溶剂。

主权项:1.一种正型抗蚀剂组成物,其含有:4.1~20质量份的A下式1表示的第1鎓盐化合物;2.3~8.8质量份的B下式2表示的第2鎓盐化合物;80质量份的C基础聚合物,该基础聚合物含有下式a表示的含酸不稳定基团的重复单元、及视需要的下式b表示的含酸不稳定基团的重复单元,且其碱溶解性会因酸而改善,但是,含有下式b表示的含酸不稳定基团的重复单元时,酸不稳定基团的碳数为14以上者在全部重复单元中为5摩尔%以下的话,则亦可含有;及200~5,000质量份的D有机溶剂; 式中,R1及R2为羟基、或亦可含有杂原子的碳数1~30的1价烃基;环R为与式中的S+一起形成的碳数4或5的脂环;m及n为0或1;k为0或1;Z-为有机阴离子; 式中,A1为氢原子或三氟甲基;R11为含氮杂环基或下式2-1表示的基团; 式中,R12及R13各自独立地为氢原子或亦可含有杂原子的碳数1~20的1价烃基;又,R12及R13亦可彼此键结并与它们所键结的氮原子一起形成环;R14为亦可含有杂原子的碳数1~20的2价烃基;破折线为共价键;MA+为下式2A表示的锍阳离子或下式2B表示的錪阳离子; 式中,R101、R102、R103、R104及R105各自独立地为亦可含有杂原子的碳数1~20的1价烃基;又,R101、R102及R103中的任2个以上亦可彼此键结并与它们所键结的硫原子一起形成环; 式中,RA为氢原子或甲基;R21为碳数1~8的直链状或分支状的烷基;p为1~3的整数;XA为下式b1表示的基团以外的酸不稳定基团; 式中,R21及p与前述相同;破折线为共价键。

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