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【实用新型】一种激光三维蚀刻系统_武汉嘉铭激光股份有限公司_201922347753.0 

申请/专利权人:武汉嘉铭激光股份有限公司

申请日:2019-12-24

公开(公告)日:2020-09-15

公开(公告)号:CN211490109U

主分类号:B23K26/362(20140101)

分类号:B23K26/362(20140101);B23K26/082(20140101);B23K26/064(20140101)

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2020.09.15#授权

摘要:本实用新型公开了一种激光三维蚀刻系统,包括计算机,用于控制光纤激光器、电控扩束镜、激光测距系统、同轴合束器、X‑Y振镜系统,同时用于蚀刻图形的处理。能自动生成蚀刻轨迹的三维数据,并完成三维蚀刻,能极大降低工件摆放时的精度要求,能极大降低对蚀刻目标的一致性要求。

主权项:1.一种激光三维蚀刻系统,其特征是:包括:计算机,用于控制光纤激光器、电控扩束镜、激光测距系统、同轴合束器、X-Y振镜系统,同时用于蚀刻图形的处理;光纤激光器,用于激光蚀刻的激光器,与电控扩束镜固定连接;电控扩束镜,用于控制蚀刻激光焦距,与同轴合束器固定连接;激光测距系统,用于测量工件与该系统的距离;同轴合束器,用于将蚀刻激光和测距激光同轴合束,与X-Y振镜系统固定连接;X-Y振镜系统,由上至下,呈90°依次布置的激光反射镜片;其中,计算机分别与光纤激光器、电控扩束镜、激光测距系统、X-Y振镜系统连接。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 武汉嘉铭激光股份有限公司 一种激光三维蚀刻系统

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