申请/专利权人：JX金属株式会社

申请日：2019-11-29

公开（公告）日：2020-09-15

公开（公告）号：CN111663107A

主分类号：C23C14/34(20060101)

分类号：C23C14/34(20060101)

优先权：["20190305 JP 2019-040060"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2022.05.06#授权;2020.10.13#实质审查的生效;2020.09.15#公开

摘要：本发明要解决的技术问题是提供一种在溅射时能够抑制与基板微粒增加相关联的微细结瘤的产生量的溅射靶及其制造方法。本发明提供一种陶瓷系溅射靶，其溅射面的表面粗糙度Ra为0.5μm以下，并且用激光显微镜测量的Svk值为1.1μm以下。

主权项：1.一种陶瓷系溅射靶，其中，溅射面的表面粗糙度Ra为0.5μm以下，并且用激光显微镜测量的Svk值为1.1μm以下。

全文数据：

权利要求：

百度查询： JX金属株式会社 溅射靶及其制造方法

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