申请/专利权人：台湾气立股份有限公司

申请日：2019-04-02

公开（公告）日：2020-10-13

公开（公告）号：CN111765130A

主分类号：F04F5/22(20060101)

分类号：F04F5/22(20060101);F04F5/44(20060101);F04F5/52(20060101)

优先权：

专利状态码：失效-发明专利申请公布后的视为撤回

法律状态：2023.03.10#发明专利申请公布后的视为撤回;2020.10.30#实质审查的生效;2020.10.13#公开

摘要：本发明公开了一种大容量真空控制装置，其本体内具有一控气室，能用以供一真空发生二口二位阀与一真空破坏二口二位阀设置其中，且控气室连通至本体外部设置的一真空发生电磁阀与一真空破坏电磁阀，一气压源连通该控制室至该本体内的一进气室，一吸入口与一真空压力开关则连通至本体内的一流道配合一逆止阀至一吸气室，该进气室的侧壁设置二真空产生器贯穿一吸气室与一排气室，该排气室还设有一消音器形成一排出口，借该真空产生器并联让该吸入口的流量增加，利用该真空发生电磁阀与该真空破坏电磁阀各别控制真空发生与破坏，借以获得真空节能的效果，让吸入口能于吸附工件时，不需持续大量输入压缩空气，就能保持一定时间进行相对应的动作。

主权项：1.一种大容量真空控制装置，其特征在于，包含有：一本体10，具有一控气室11供一真空发生二口二位阀21与一真空破坏二口二位阀31设置，且该控气室11连通至本体10外部设置的一真空发生电磁阀20与一真空破坏电磁阀30，一气压源12连通该控气室11至该本体10内的一进气室50，一吸入口13与一真空压力开关40连通该本体10内的一流道15配合一逆止阀151至一吸气室51，该进气室50的侧壁设置二真空产生器60贯穿一吸气室51与一排气室52，该排气室52还设有一消音器521形成一排出口14，借该真空产生器60并联让该吸入口13的流量增加，以利用该真空发生电磁阀20与该真空破坏电磁阀30分别控制真空发生与破坏。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 台湾气立股份有限公司 大容量真空控制装置

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