申请/专利权人:中国科学院上海微系统与信息技术研究所;上海新昇半导体科技有限公司
申请日:2020-07-01
公开(公告)日:2020-10-13
公开(公告)号:CN111763985A
主分类号:C30B15/00(20060101)
分类号:C30B15/00(20060101);C30B29/06(20060101)
优先权:
专利状态码:有效-授权
法律状态:2021.10.19#授权;2020.10.30#实质审查的生效;2020.10.13#公开
摘要:本发明公开了一种用于单晶生产炉的热屏结构,所述热屏结构用于设在所述单晶硅生长炉的熔体坩埚上部,所述热屏结构包括外壳和隔热板,所述隔热板设于所述外壳的内部,所述外壳底部外表面用于朝向所述熔体坩埚内部,所述隔热板所在平面与所述外壳底部所在平面形成的夹角为锐角且所述夹角朝向所述单晶硅的外表面。本发明的目的是提供一种用于单晶生产炉的热屏结构及单晶生产炉,结构简单,通过改变热屏设计,增设隔热板将吸热板吸收到的热量传递给单晶硅,在热屏中形成热通道,实现对单晶硅的径向温度梯度进行优化,从而实现拉速的控制,进而提高单晶硅径向的质量均匀性。
主权项:1.一种用于单晶生产炉的热屏结构,其特征在于,所述热屏结构8用于设在所述单晶生长炉的熔体坩埚6上部,所述热屏结构8包括外壳2和隔热板1,所述隔热板1设于所述外壳2的内部,所述外壳2底部外表面用于朝向所述熔体坩埚6内部,所述隔热板1所在平面与所述外壳2底部所在平面形成的夹角为锐角且所述夹角朝向所述单晶硅7的外表面。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所;上海新昇半导体科技有限公司 一种用于单晶生产炉的热屏结构及单晶生产炉
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