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【发明公布】用于衬底和装置的薄膜渗透屏障系统和制造所述薄膜渗透屏障系统的方法_环球展览公司_202010661902.5 

申请/专利权人:环球展览公司

申请日:2015-08-19

公开(公告)日:2020-10-13

公开(公告)号:CN111769206A

主分类号:H01L51/52(20060101)

分类号:H01L51/52(20060101);H01L51/00(20060101)

优先权:["20140821 US 14/464,997"]

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2020.10.30#实质审查的生效;2020.10.13#公开

摘要:本申请涉及一种用于衬底和装置的薄膜渗透屏障系统和制造所述薄膜渗透屏障系统的方法。提供薄膜渗透屏障系统和制造所述薄膜渗透屏障系统的技术。所述屏障系统包括混合层,例如含有SiOxCyHz的层,和无机层。

主权项:1.一种与硅或玻璃衬底一起使用的薄膜屏障,其中所述薄膜屏障由以下组成:包含SiOxCyHz的第一混合屏障层,其中1≤x2,0.001≤y≤1并且0.001≤z≤1;和无机第二屏障层,其紧邻所述第一混合屏障层安置,其中所述第一混合屏障层比所述无机第二屏障层更靠近所述装置或所述衬底,以及其中所述薄膜屏障在所述硅或玻璃衬底上的边缘宽度不大于0.01至10mm。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 环球展览公司 用于衬底和装置的薄膜渗透屏障系统和制造所述薄膜渗透屏障系统的方法

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