申请/专利权人：光驰科技(上海)有限公司

申请日：2020-07-28

公开（公告）日：2020-10-13

公开（公告）号：CN111763016A

主分类号：C03C17/36(20060101)

分类号：C03C17/36(20060101)

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2020.10.30#实质审查的生效;2020.10.13#公开

摘要：本发明涉及真空镀膜技术领域，尤其是一种低应力薄膜，其特征在于：在所述薄膜层和所述基板之间设置有应力中和层，所述应力中和层是由两层或两层以上的应力类型相反的膜层所构成。本发明的优点是：使得整个膜系结构的膜层应力互相抵消中和，基板的变形极小；减反射层通过铬和二氧化硅的堆叠，对可见光形成吸收和干涉，减小膜层对可见光的反射，使得可见光波段的透过率小于0.1%，反射率小于1%；膜系结构简单，膜层应力低，薄膜的稳定性好，并且可以通过使用真空热蒸发、真空离子源辅助蒸发、磁控溅射等常用物理气相沉积方式实施镀膜，具有较高的可制备性，便于推广。

主权项：1.一种低应力薄膜，包括薄膜层，所述薄膜层设置在基板上，其特征在于：在所述薄膜层和所述基板之间设置有应力中和层，所述应力中和层是由两层或两层以上的应力类型相反的膜层所构成。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 光驰科技(上海)有限公司 一种低应力薄膜

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