申请/专利权人：万特斯医疗有限公司

申请日：2019-01-10

公开（公告）日：2020-10-16

公开（公告）号：CN111787820A

主分类号：A24F40/40(20200101)

分类号：A24F40/40(20200101);A24F40/46(20200101);A24F40/48(20200101)

优先权：["20180111 GB 1800500.9"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2021.01.05#实质审查的生效;2020.10.16#公开

摘要：本发明涉及一种用于吸入装置的吸嘴组件150，该吸嘴组件包括可更换的基底部件90和用于该装置的可更换的基底部件50、90。就吸嘴组件而言，其包括吸嘴120，该吸嘴实质上是中空管，在该中空管中可沿其大致纵向轴线发生流体流动。在吸嘴内，限定了空腔区域140，该空腔区域适于接收和定位基本平坦的细长基底部件，以使得其在流体流发生时与所述流体流相互作用。在一实施例中，基底部件包括至少一个基本平坦的表面，在该至少一个基本平坦的表面中设有至少一个通道结构，所述基本平坦的表面与所述吸嘴的相应的内部表面配合，以使得至少一个所述通道结构和所述相应的内部表面共同限定了至少一个导管，在吸嘴内发生的任何流体流的至少一部分必须通过该导管进行引导。在另一实施例中，基底部件包括至少一个基本平坦的表面，在所述基底部件的内部至少一个导管被设置在该基本平坦的表面之下，所述导管分别具有入口孔和出口孔，其中至少一个被设置在所述基底部件的所述基本平坦的表面中，所述基本平坦的表面与所述吸嘴的相应内部表面配合，以使得所述表面一起将吸嘴内发生的任何流体流的至少一部分约束成被引导至设置在所述吸嘴部件内的所述至少一个内部导管中。在两个实施例中，基底部件包括基底，一定量的可雾化制剂已经在所述基底的可被充分激发以致使制剂雾化的区域上施加至所述基底，并且所述基底被固定安装在所述基底部件内，其取向和位置使得所述通道结构或导管视情况而定至少部分地与所述区域重合，并且因此所述基底在该区域中的表面暴露于并且可能被夹带至相关时刻在所述通道或导管中流动的任何流体中。

主权项：1.一种用于吸入装置的吸嘴组件，所述吸嘴组件包括吸嘴和基底部件，所述吸嘴具有靠近其第一端设置的第一空气入口以及靠近其沿轴向远离所述第一端的第二端设置的空气出口，所述入口和所述出口在所述吸嘴的内部彼此流体连通，以使得所述吸嘴内的流体流倾向于沿着其基本上纵向的轴线产生，所述吸嘴具有空腔区域，所述空腔区域被限定在所述吸嘴的内部并适合于将所述基底部件接收和定位在所述吸嘴内，以使得所述基底部件在所述流体流产生时与所述流体流相互作用，其特征在于，所述基底部件包括至少一个基本平坦的表面，在所述至少一个基本平坦的表面中设有至少一个通道结构，所述基本平坦的表面与所述吸嘴的相应的内部表面协作，以使得至少一个所述通道结构和所述相应的内部表面一起限定至少一个导管，所述吸嘴内产生的任何流体流的至少一部分必须被引导通过所述至少一个导管，并且进一步的特征在于，所述基底部件包括基底，一定量的可雾化制剂已经在所述基底的可以在被供以足够且合适的激发能量时被激发的区域上施加至所述基底，所述通道结构与所述区域至少部分地重合并因此暴露所述基底在所述区域中的表面，以使得在供应激发能量时雾化的任何制剂被夹带至在所述通道内并且因此在所述通道所部分地限定的所述导管内流动的流体中。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 万特斯医疗有限公司 用于吸入装置的包括可更换基底部件的吸嘴组件以及可更换基底部件

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD