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【发明公布】一种多功能同步辐射干涉曝光实验平台及实验方法_中国科学院上海应用物理研究所_202010635450.3 

申请/专利权人:中国科学院上海应用物理研究所

申请日:2020-07-03

公开(公告)日:2020-10-16

公开(公告)号:CN111781220A

主分类号:G01N23/04(20180101)

分类号:G01N23/04(20180101);G01N23/20025(20180101);G01N23/20008(20180101)

优先权:

专利状态码:失效-发明专利申请公布后的视为撤回

法律状态:2023.11.24#发明专利申请公布后的视为撤回;2020.11.03#实质审查的生效;2020.10.16#公开

摘要:本发明涉及一种多功能同步辐射干涉曝光实验平台,沿光路走向依次包括同步辐射光源发生装置、第一柱面反射镜、第二柱面反射镜、孔径光阑、用于测量入射光强度的第一光电二极管、待测透射光栅、级选光阑以及透射图像接收装置,在所述级选光阑和所述透射图像接收装置之间设有多功能样品架,所述多功能样品架包括用于夹持样品的样品夹、第二光电二极管以及镂空观察孔,所述第二光电二极管与所述样品位于同一照射平面,所述透射图像接收装置对准所述镂空观察孔。本发明的多功能同步辐射干涉曝光实验平台及实验方法能够修正曝光时间来补偿曝光过程中光强波动所产生的影响,同时,可以实现衍射效率的快速测量以及极紫外光刻胶灵敏度性能的准确评估。

主权项:1.一种多功能同步辐射干涉曝光实验平台,沿光路走向依次包括同步辐射光源发生装置、第一柱面反射镜、第二柱面反射镜、孔径光阑、用于测量入射光强度的第一光电二极管、待测透射光栅、级选光阑以及透射图像接收装置,其特征在于,在所述级选光阑和所述透射图像接收装置之间设有多功能样品架,所述多功能样品架包括用于夹持样品的样品夹、第二光电二极管以及镂空观察孔,所述第二光电二极管与所述样品位于同一照射平面,所述透射图像接收装置对准所述镂空观察孔。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 中国科学院上海应用物理研究所 一种多功能同步辐射干涉曝光实验平台及实验方法

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