申请/专利权人:重庆恒隆陶瓷制品有限公司
申请日:2019-12-30
公开(公告)日:2020-10-16
公开(公告)号:CN211682725U
主分类号:B28B11/04(20060101)
分类号:B28B11/04(20060101);B28B11/22(20060101);B28B17/00(20060101)
优先权:
专利状态码:有效-授权
法律状态:2020.10.16#授权
摘要:本实用新型涉及瓦片加工技术领域,公开了一种进窑炉前清洁上釉装置,依次包括清洁机构、第一翻转机构、喷雾机构、第二翻转机构和上釉机构;还包括传送架,传送架包括支架和设置在支架上传送带;清洁机构、喷雾机构和上釉机构均位于传送带的上方。本实用新型结构简单,对瓦片进窑前进行清洁、上釉,提高瓦片烧制的质量。
主权项:1.一种进窑炉前清洁上釉装置,其特征在于,依次包括清洁机构、第一翻转机构、喷雾机构、第二翻转机构和上釉机构;还包括传送架,传送架包括支架和设置在支架上传送带;清洁机构、喷雾机构和上釉机构均位于传送带的上方。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 重庆恒隆陶瓷制品有限公司 进窑炉前清洁上釉装置
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