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【发明公布】光源装置、显示设备和照明装置_北京镭创高科光电科技有限公司_202010273939.0 

申请/专利权人:北京镭创高科光电科技有限公司

申请日:2020-04-09

公开(公告)日:2020-10-20

公开(公告)号:CN111796431A

主分类号:G02B27/48(20060101)

分类号:G02B27/48(20060101);G02B27/28(20060101);G02B27/09(20060101)

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2020.11.06#实质审查的生效;2020.10.20#公开

摘要:本发明提供了一种光源装置、显示设备和照明装置,所述光源装置包括:第一光源组件,所述第一光源组件用于出射第一光源光束;第二光源组件,所述第二光源组件用于出射第二光源光束;耦合组件,所述耦合组件用于将所述第一光源光束和所述第二光源光束耦合为第一光束;汇聚组件,所述汇聚组件用于将所述第一光束汇聚为第二光束;光棒,所述光棒用于对所述第二光束进行匀场整形处理;其中,所述耦合组件包括偏振分束镜和反射镜;所述偏振分束镜具有相反的第一表面和第二表面;所述偏振分束镜能够透射第一偏振态光波,并反射第二偏振态光波。应用本发明提供的技术方案,提高了光能利用率,且无需采用异形光棒即可提高匀场效果。

主权项:1.一种光源装置,其特征在于,所述光源装置包括:第一光源组件,所述第一光源组件用于出射第一光源光束;第二光源组件,所述第二光源组件用于出射第二光源光束;耦合组件,所述耦合组件用于将所述第一光源光束和所述第二光源光束耦合为第一光束;汇聚组件,所述汇聚组件用于将所述第一光束汇聚为第二光束;光棒,所述光棒用于对所述第二光束进行匀场整形处理;其中,所述第一光源光束与所述第二光源光束中的一者为激光光束,另一者为宽光谱荧光;所述耦合组件包括偏振分束镜和反射镜;所述偏振分束镜具有第一表面和第二表面;所述偏振分束镜能够透射第一偏振态光波,并反射第二偏振态光波;所述第一表面在所述第一光源光束照射路径上,使得所述第一光源光束中第一偏振态的光波透过所述偏振分束镜,入射所述汇聚组件,并使得所述第一光源光束中第二偏振态的光波依次通过所述偏振分束镜与所述反射镜,反射至所述汇聚组件;所述第二表面在所述第二光源光束的照射路径上,使得所述第二光源光束中第一偏振态的光波透过所述偏振分束镜后,通过所述反射镜反射至所述汇聚组件,并使得所述第二光源光束中第二偏振态的光波通过所述偏振分束镜反射至所述汇聚组件。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 北京镭创高科光电科技有限公司 光源装置、显示设备和照明装置

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