申请/专利权人：长江存储科技有限责任公司

申请日：2020-06-30

公开（公告）日：2020-10-20

公开（公告）号：CN111799216A

主分类号：H01L21/762(20060101)

分类号：H01L21/762(20060101)

优先权：

专利状态码：失效-发明专利申请公布后的驳回

法律状态：2022.04.01#发明专利申请公布后的驳回;2020.11.06#实质审查的生效;2020.10.20#公开

摘要：该发明涉及一种填充方法，包括以下步骤：提供一反应腔室；提供衬底，并将所述衬底置于所述反应腔室内，所述衬底上方形成有沟槽或过孔；在所述沟槽或过孔内填充目标化合物；对所述反应腔室内对所述沟槽或过孔顶部形成的目标化合物进行刻蚀去除，保持所述沟槽或过孔顶部与所述沟槽或过孔内部贯通。

主权项：1.一种填充方法，其特征在于，包括以下步骤：提供一反应腔室；提供衬底，并将所述衬底置于所述反应腔室内，所述衬底上方形成有沟槽或过孔；在所述沟槽或过孔内填充目标化合物；对所述反应腔室内对所述沟槽或过孔顶部形成的目标化合物进行刻蚀去除，保持所述沟槽或过孔顶部与所述沟槽或过孔内部贯通。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 长江存储科技有限责任公司 填充方法

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