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【发明公布】一种真空吸附底座_邹友栓_202010698814.2 

申请/专利权人:邹友栓

申请日:2020-07-20

公开(公告)日:2020-10-20

公开(公告)号:CN111791161A

主分类号:B25B11/00(20060101)

分类号:B25B11/00(20060101)

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2022.03.18#授权;2020.11.06#实质审查的生效;2020.10.20#公开

摘要:本发明公开了一种真空吸附底座,包括放置在底座上的待加工工件,所述底座上开设有多个通孔,多个所述通孔之间通过表面连通槽相连通,所述底座内开设有空腔,所述空腔内壁固定连接有主管,所述主管内对称滑动连接有第一活塞块,所述主管通过连通管固定连通有分流管,所述分流管横竖交错设置,所述分流管上等间距固定连通有多个竖管,每个所述竖管内滑动连接有第二活塞块,所述第二活塞块上设有封堵机构。本发明底座适应了不同大小尺寸待加工工件的自我调节,在真空泵输出功率不变的情况下,吸附效果更好,并且在日常不使用时顶杆堵住通孔,可有效避免杂物落入通孔内形成堵塞,减轻了工作人员的维护负担。

主权项:1.一种真空吸附底座,包括放置在底座1上的待加工工件17,其特征在于,所述底座1上开设有多个通孔14,多个所述通孔14之间通过表面连通槽18相连通,所述底座1内开设有空腔,所述空腔内壁固定连接有主管3,所述主管3内对称滑动连接有第一活塞块4,所述主管3通过连通管13固定连通有分流管10,所述分流管10横竖交错设置,所述分流管10上等间距固定连通有多个竖管11,每个所述竖管11内滑动连接有第二活塞块12,所述第二活塞块12上设有封堵机构,所述封堵机构包括顶杆8与密封塞9,所述顶杆8固定连接在第二活塞块12上,所述密封塞9固定穿插在顶杆8上,所述主管3、分流管10、竖管11内均注有流体;所述真空吸附底座包括平衡箱2,所述平衡箱2固定连接在空腔底壁,所述平衡箱2与主管3相连通,所述平衡箱2的底侧分别固定连通有泄压管5和平衡管6,所述平衡管6上设有单向阀7,所述泄压管5上设有调节阀。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 邹友栓 一种真空吸附底座

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