申请/专利权人：国立大学法人东京大学;同和电子科技有限公司

申请日：2019-03-26

公开（公告）日：2020-10-23

公开（公告）号：CN111819642A

主分类号：H01F1/11(20060101)

分类号：H01F1/11(20060101);C01G49/00(20060101);C01G49/06(20060101)

优先权：["20180329 JP 2018-064856"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2020.12.01#实质审查的生效;2020.10.23#公开

摘要：本发明提供粒度分布狭窄、且无助于磁记录特性的微细粒子的含量少，其结果矫顽力分布狭窄、适于磁记录介质的高记录密度化的铁系氧化物磁性粉的制造方法。通过湿式法得到ε型的铁系氧化物磁性粉后，向包含该磁性粉的浆料中添加作为表面改性剂的0.009molkg以上且1.0molkg以下的四烷基铵盐，并且将pH设为11以上且14以下，实施分散处理后进行分级，由此得到粒度分布狭窄、且矫顽力分布狭窄的铁系氧化物磁性粉。

主权项：1.铁系氧化物磁性粉，由利用透射电子显微镜测定的平均粒径为8nm以上30nm以下、且粒径的变动系数为30％以下的ε氧化铁的粒子构成，下述定义的ILIH的值为0.55以下，其中，IH是对在施加磁场3979kAm50kOe、M测定范围0.005A·m25emu、施加磁场变化速度13kAm·s、时间常数0.03sec、等待时间0.8sec的条件下测定得到的B-H曲线进行数值微分而得到的微分B-H曲线中出现于高磁场侧的峰的强度，另外，IL是所述微分B-H曲线的零磁场处的纵轴截距的强度。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 国立大学法人东京大学;同和电子科技有限公司 铁系氧化物磁性粉及其制造方法

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD