申请/专利权人：中国科学院微电子研究所;真芯(北京)半导体有限责任公司

申请日：2020-07-17

公开（公告）日：2020-10-23

公开（公告）号：CN111805396A

主分类号：B24B29/00(20060101)

分类号：B24B29/00(20060101);B24B41/04(20060101);B24B47/12(20060101);B24B57/02(20060101)

优先权：

专利状态码：失效-发明专利申请公布后的驳回

法律状态：2022.12.16#发明专利申请公布后的驳回;2020.11.10#实质审查的生效;2020.10.23#公开

摘要：本发明提供了一种抛光装置及抛光组件，该抛光装置用于抛光晶圆，该抛光装置包括能够旋转的转盘、设置在转盘上且具有抛光表面的抛光垫，在抛光垫的上方设置有用于向抛光表面喷洒抛光液的喷头。抛光表面划分为多个抛光区，且每个抛光区上设置有用于将该抛光区的抛光液排出的排液孔。还包括控制每个排液孔是否排出抛光液的控制阀门。通过将抛光表面划分为多个抛光区，在每个区上设置排液孔，还设置控制每个排液孔是否排出抛光液的控制阀门，以便于控制晶圆的不同位置处的抛光液的量。在应用时，晶圆上抛光量已经较大的区域，可以相应排出一些该区域所对应的抛光区上的抛光液的量，从而防止晶圆被过度抛光，以控制晶圆上成膜图形的均匀性。

主权项：1.一种抛光装置，用于抛光晶圆，其特征在于，包括：能够旋转的转盘；设置在所述转盘上且具有抛光表面的抛光垫；位于所述抛光垫上方且用于向所述抛光表面喷洒抛光液的喷头；其中，所述抛光表面划分为多个抛光区；且每个抛光区上设置有用于将该抛光区的抛光液排出的排液孔；还包括：控制所述每个排液孔是否排出所述抛光液的控制阀门。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 中国科学院微电子研究所;真芯(北京)半导体有限责任公司 一种抛光装置及抛光组件

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