申请/专利权人：京东方科技集团股份有限公司

申请日：2020-07-21

公开（公告）日：2020-10-23

公开（公告）号：CN111811648A

主分类号：G01J3/02(20060101)

分类号：G01J3/02(20060101);G01J3/28(20060101);B81C1/00(20060101)

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2020.11.10#实质审查的生效;2020.10.23#公开

摘要：本申请提供一种光谱仪及其制备方法。所述光谱仪包括谐振腔，所述谐振腔包括相对设置的第一反射层及第二反射层。所述光谱仪还包括超表面结构，所述超表面结构形成于所述第一反射层朝向所述第二反射层的一侧，所述超表面结构与所述第二反射层间隔设置。所述超表面结构包括多个间隔排布的结构单元，所述结构单元包括多个阵列排布的柱状结构。同一所述结构单元的柱状结构在所述第一反射层上的正投影的面积相同，至少两个所述结构单元的柱状结构在所述第一反射层上的正投影的面积不同。

主权项：1.一种光谱仪，其特征在于，所述光谱仪包括谐振腔，所述谐振腔包括相对设置的第一反射层及第二反射层；所述光谱仪还包括超表面结构，所述超表面结构形成于所述第一反射层朝向所述第二反射层的一侧，所述超表面结构与所述第二反射层间隔设置；所述超表面结构包括多个间隔排布的结构单元，所述结构单元包括多个阵列排布的柱状结构；同一所述结构单元的柱状结构在所述第一反射层上的正投影的面积相同，至少两个所述结构单元的柱状结构在所述第一反射层上的正投影的面积不同。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 京东方科技集团股份有限公司 光谱仪及其制备方法

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD