申请/专利权人:东京毅力科创株式会社
申请日:2020-04-17
公开(公告)日:2020-11-17
公开(公告)号:CN211957602U
主分类号:H01L21/67(20060101)
分类号:H01L21/67(20060101);H01L21/027(20060101);G03F7/16(20060101);G03F7/30(20060101)
优先权:["20190426 JP 2019-086013"]
专利状态码:有效-授权
法律状态:2020.11.17#授权
摘要:本实用新型提供一种液处理装置,对于利用从喷嘴喷出的处理液进行的液处理的面内均匀性有效。液处理装置具备:处理液供给部,其具有喷出处理液的喷嘴;喷嘴移动部,其使所述喷嘴在用于朝向基板的表面供给处理液的涂布位置和与涂布位置不同的待机位置之间移动;清洗部,其朝向待机位置供给清洗液,以通过清洗液对位于待机位置的喷嘴的顶端面进行清洗;吸引部,其具有朝向位于待机位置的喷嘴的顶端面开口的吸引口,吸引部吸引从位于待机位置的喷嘴喷出的处理液以及通过清洗部供给到待机位置的清洗液;以及控制装置,其控制处理液供给部、喷嘴移动部、吸引部及清洗部。
主权项:1.一种液处理装置,其特征在于,具备:处理液供给部,其具有喷出处理液的喷嘴;喷嘴移动部,其使所述喷嘴在用于朝向基板的表面供给所述处理液的涂布位置和与所述涂布位置不同的待机位置之间移动;清洗部,其朝向所述待机位置供给清洗液,以通过所述清洗液对位于所述待机位置的所述喷嘴的顶端面进行清洗;吸引部,其具有朝向位于所述待机位置的所述喷嘴的顶端面开口的吸引口,所述吸引部吸引从位于所述待机位置的所述喷嘴喷出的所述处理液以及通过所述清洗部供给到所述待机位置的所述清洗液;以及控制装置,其控制所述处理液供给部、所述喷嘴移动部、所述吸引部及所述清洗部。
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百度查询: 东京毅力科创株式会社 液处理装置
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