申请/专利权人：中山新诺科技股份有限公司

申请日：2020-08-24

公开（公告）日：2020-11-20

公开（公告）号：CN111965949A

主分类号：G03F7/20(20060101)

分类号：G03F7/20(20060101)

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2023.06.06#授权;2020.12.08#实质审查的生效;2020.11.20#公开

摘要：本发明公开了一种曝光装置及曝光方法，曝光装置包括机架、第一曝光组件、第二曝光组件、监测组件和控制器，第一曝光组件和第二曝光组件均设在机架上，第一曝光组件和第二曝光组件之间形成曝光区；监测组件设在机架上，监测组件用于监测基板的位置；控制器与第一曝光组件、第二曝光组件和监测组件电性连接。曝光方法能够应用于前述的曝光装置。该曝光装置，基板通过曝光区时，第一曝光组件和第二曝光组件分别对基板的相对两侧进行曝光，实现双面曝光，曝光效率高；同时，监测组件实时监测基板的位置，控制器根据基板的实时位置及时调整第一曝光组件和第二曝光组件的曝光路径，以提高曝光精度。

主权项：1.一种曝光装置，其特征在于，包括：机架；第一曝光组件和第二曝光组件，所述第一曝光组件和所述第二曝光组件均设在所述机架上，所述第一曝光组件和所述第二曝光组件之间形成曝光区；监测组件，所述监测组件设在所述机架上，所述监测组件用于监测基板的位置；及控制器，所述控制器与所述第一曝光组件、所述第二曝光组件和所述监测组件电性连接。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 中山新诺科技股份有限公司 曝光装置及曝光方法

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