申请/专利权人:睿明科技股份有限公司
申请日:2019-05-21
公开(公告)日:2020-11-24
公开(公告)号:CN111986982A
主分类号:H01L21/02(20060101)
分类号:H01L21/02(20060101)
优先权:
专利状态码:失效-发明专利申请公布后的视为撤回
法律状态:2024.04.19#发明专利申请公布后的视为撤回;2020.12.11#实质审查的生效;2020.11.24#公开
摘要:本发明中清洗基材表面的方法主要提供奈米水以及一外力于该基材表面,将位于该基板表面的复数残留粒子移除;最后进行一干燥步骤去除残留于该基材表面的该奈米水,本发明主要利用奈米水来移除清洗经研磨或抛光处理后的一半导体晶圆、一玻璃或一光学镜片等基材,具有较佳的清洗效率,可有效地移除基材表面的残留粒子,也不会让基材上的表面处理或电子线路遭受损害。
主权项:1.一种清洗基材表面的方法,其特征在于,至少具有下列步骤:一移除步骤,提供一外力以及一奈米水于一基材表面,将位于该基板表面的复数残留粒子移除;以及一干燥步骤,去除残留于该基材表面的该奈米水。
全文数据:
权利要求:
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