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【发明公布】聚焦深度测量方法和测量装置_电子科技大学_201910427957.7 

申请/专利权人:电子科技大学

申请日:2019-05-22

公开(公告)日:2020-11-24

公开(公告)号:CN111983828A

主分类号:G02F1/13(20060101)

分类号:G02F1/13(20060101);G02F1/29(20060101);G01M11/02(20060101)

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2021.08.31#授权;2020.12.11#实质审查的生效;2020.11.24#公开

摘要:本发明涉及光学成像技术领域,本发明解决了聚焦深度测量技术中图像采集效率较低的问题,提供一种聚焦深度测量方法和测量装置。该深度测量方法包括以下步骤:液晶透镜接收第一驱动电压;将液晶透镜接收的第一驱动电压切换为第二驱动电压;响应于第一驱动电压至第二驱动电压的切换,液晶透镜连续变焦;在液晶透镜变焦的过程中采集同一场景中不同对焦物的一系列图像;采集各幅图像中每个像素点的对焦评价值;采集每个像素点的场景深度。本发明发现了液晶透镜的动态变焦特性,其采集过程中液晶透镜分别呈透镜状态且成像像差均小于0.1,本发明克服了液晶透镜无法动态连续变焦的技术偏见,因此无须等待液晶透镜完成变焦后采集图像,从而提高采集效率。

主权项:1.一种基于液晶透镜动态变焦特性的聚焦深度测量方法,其特征在于,包括以下步骤:S1、液晶透镜接收第一驱动电压;S2、将所述液晶透镜接收的所述第一驱动电压切换为第二驱动电压;S3、响应于所述第一驱动电压至第二驱动电压的切换,液晶透镜连续变焦;S4、在液晶透镜连续变焦的过程中对同一场景采集至少两幅图像;S5、采集各幅图像中每个像素点的对焦评价值;S6、通过DFF算法采集每个像素点的场景深度;其中,液晶透镜在第一驱动电压和第二驱动电压时,液晶透镜分别呈透镜状态。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 电子科技大学 聚焦深度测量方法和测量装置

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