申请/专利权人：东京毅力科创株式会社

申请日：2020-05-15

公开（公告）日：2020-11-24

公开（公告）号：CN111986990A

主分类号：H01L21/033(20060101)

分类号：H01L21/033(20060101)

优先权：["20190523 JP 2019-097156"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2020.12.11#实质审查的生效;2020.11.24#公开

摘要：本发明提供一种硬掩模、基板处理方法以及基板处理装置，该硬掩膜进行了应力调整。所述硬掩模形成于在基板形成的对象膜之上，并且是通过将一个以上的具有第一方向的应力的第一膜和一个以上的具有与所述第一方向相反的第二方向的应力的第二膜交替地层叠而成的硬掩模。

主权项：1.一种硬掩模，形成于在基板形成的对象膜之上，所述硬掩模是将一个以上的具有第一方向的应力的第一膜和一个以上的具有与所述第一方向相反的第二方向的应力的第二膜交替地层叠而成的硬掩模。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 东京毅力科创株式会社 硬掩模、基板处理方法以及基板处理装置

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