申请/专利权人：富士胶片株式会社

申请日：2019-04-10

公开（公告）日：2020-11-24

公开（公告）号：CN111989740A

主分类号：G10K11/172(20060101)

分类号：G10K11/172(20060101);F24F13/02(20060101);F24F13/24(20060101);G10K11/16(20060101)

优先权：["20180418 JP 2018-080223"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2020.12.11#实质审查的生效;2020.11.24#公开

摘要：一种隔音结构体，其具有：开口部件，其构成剖面面积S的开口管路；及对声波的共振结构，其在开口管路内部设置有至少2个，其中，在将共振结构的剖面面积定义为Si及将宽度定义为di、将2个共振结构的间隔定义为L、将2个共振结构的阻抗定义为Zi、将合成声阻抗定义为Zc时，在理论吸收值At成为最大的共振频率f0下，满足下述式1的条件。该隔音结构体能够使用多个共振结构来实现高吸收。Atf0，L，S，Si，di，Zi＞0.75……1，其中，L＞0，S＞0，Si＞0，Si中，i＝1、2，di＞0，di中，i＝1、2。

主权项：1.一种隔音结构体，其具有：开口部件，其构成剖面面积S的开口管路；以及对声波的共振结构，其在所述开口管路内部设置有至少2个，其中，在所述共振结构的波导正向上的开口管路内的剖面面积Si以及宽度di为0以上，在Si中，i＝1、2、……，关于i，序号小的一侧为上游侧，在di中，i＝1、2、……，所述共振结构中的至少2个共振结构分开间隔L而设置，其中，L＞0，将分开所述间隔L而设置的所述2个共振结构的各自的阻抗定义为Zi，在Zi中，i＝1、2，在将考虑到所述2个共振结构与它们之间的间隔、波导正向的剖面面积变化以及所述2个共振结构的合成声阻抗定义为Zc时，在由下述式2给出的理论吸收值At成为最大的共振频率f0下，满足下述式1的条件，Atf0，L，S，Si，di，Zi＞0.75……1其中，L＞0，S＞0，Si＞0，在Si中，i＝1、2，di＞0，在di中，i＝1、2，且代表f，L，S，Si，di，Zi而用x表示时，Atx＝1-|Zcx-Z0Zcx+Z0|2-|2Acx+BcxZ0+Z0Ccx+Dcx|2……2在Zi中，i＝1、2，其中，合成声阻抗Zcx由下述式3定义，[数式1] 并且，Z0为由ZairS＝Z0表示的开口管路的声阻抗，其中，S为管路剖面面积，并且，Zair为空气的声阻抗，由Zair＝ρc给出，ρ为空气的密度，c为声速，并且，Acx、Bcx、Ccx以及Dcx为复合传递矩阵的要素，由下述式4定义，Tc为所述2个共振结构的复合传递矩阵，[数式2] 并且，Ti为相当于所述2个共振结构的各个共振结构的传递矩阵，由下述式5定义，所述Ti中，i＝1、2，[数式3] 并且，Tdi2为相当于所述2个共振结构的各个共振结构的距离的传递矩阵，由下述式6定义，[数式4] 并且，TL-d12-d22为相当于所述2个共振结构的距离的传递矩阵，由下述式7定义,[数式5]

全文数据：

权利要求：

百度查询： 富士胶片株式会社 隔音结构体

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