申请/专利权人：中国航发北京航空材料研究院

申请日：2020-07-24

公开（公告）日：2020-11-24

公开（公告）号：CN111979520A

主分类号：C23C14/35(20060101)

分类号：C23C14/35(20060101);C23C14/02(20060101);C23C14/10(20060101);C23C14/08(20060101);C23C14/18(20060101);C23C14/06(20060101);C23C14/20(20060101);C03C17/36(20060101);C08J7/044(20200101);C08J7/046(20200101);C08J7/06(20060101);C08L69/00(20060101);C08L33/12(20060101)

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2023.01.13#授权;2020.12.11#实质审查的生效;2020.11.24#公开

摘要：本发明涉及一种具有低电阻和低光学损耗的玻璃及其制备方法，本发明利用涂层涂覆技术与磁控溅射技术在无机玻璃、聚碳酸酯或有机玻璃上制备多层薄膜结构，包括过渡层、介质层、保护层、导电层、保护层、减反层、耐磨层，使其具有低电阻和低光学损耗性能。与目前常见的氧化铟锡银氧化铟锡三明治结构相比，具有成本低、无毒、机械柔韧性好、化学稳定性好、薄膜附着力好、电阻低、透光性能好，并且适用于不耐高温基底材料等优点。

主权项：1.一种具有低电阻和低光学损耗的玻璃，其特征在于：所述玻璃由在透明基底材料1上依次镀制的过渡层2、一个或多个叠加层、第二介质层7、减反层8、耐磨层9组成；所述叠加层由第一介质层3、第一保护层4、导电层5、第二保护层6依次镀制而成；其中，第一介质层3为厚度为50-120nm的AZO薄膜，第一保护层4为厚度为1-2.5nm的NiCr薄膜，导电层5为厚度为5-10nm的Au薄膜，第二保护层6为厚度为1-2.0nm的NiCr薄膜，第二介质层7为厚度为30-100nm的AZO薄膜，减反层8为厚度为15-30nm的Nb2O5薄膜或SiO2薄膜，耐磨层9为厚度为50-200nm的C3N4薄膜或Si3N4薄膜；所述叠加层与第二介质层7总厚度为90-300nm，其中第一介质层3与第一保护层4厚度之和大于第二保护层6与第二介质层7的厚度之和。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 中国航发北京航空材料研究院 一种具有低电阻和低光学损耗的玻璃及其制备方法

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