申请/专利权人：东京毅力科创株式会社

申请日：2016-05-09

公开（公告）日：2020-11-24

公开（公告）号：CN111982927A

主分类号：G01N21/95(20060101)

分类号：G01N21/95(20060101)

优先权：["20150512 JP 2015-097333"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2023.12.15#授权;2020.12.11#实质审查的生效;2020.11.24#公开

摘要：本发明提供一种基板处理系统。具有对基板实施规定处理的多个处理装置的基板处理系统，拍摄用处理装置处理前的基板的表面来取得第一基板图像，从该第一基板图像抽取规定的特征量，从存储有与各自不同的范围的特征量对应地设定的多个检查方案的存储部，选择与从第一基板图像抽取的特征量对应的检查方案，拍摄用处理装置处理后的基板的表面来取得第二基板图像，基于检查方案和第二基板图像，判断基板有无缺陷。根据本发明，能够进行最佳的检查，并能够抑制精度的偏差。

主权项：1.一种基板处理系统，其包括：盒工作站，其具有对于收纳有多个基板的盒进行基板的搬入搬出的搬送装置；和处理站，其具有对基板进行液处理的多个液处理装置，所述基板处理系统的特征在于，包括：检查装置，其与所述盒工作站相邻地设置，拍摄由所述液处理装置处理之前的基板和由所述液处理装置处理之后的基板；特征量抽取部，其从由所述液处理装置处理之前的基板的基板图像中抽取规定的特征量；存储有多个检查方案的存储部，其中，所述多个检查方案包含与各个不同范围的所述特征量对应地设定的、由所述检查装置进行拍摄时的拍摄条件；方案选择部，其从所述存储部所存储的所述检查方案中，选择包含与由所述特征量抽取部抽取出的特征量对应的所述拍摄条件的检查方案；和缺陷判断部，其基于所选择的所述检查方案，获取与由所述液处理装置处理之前从所述基板图像中抽取了特征量的基板相同的、由所述液处理装置处理之后的基板的基板图像，来判断由所述液处理装置处理之后的基板的基板图像中是否存在缺陷。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 东京毅力科创株式会社 基板处理系统

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD