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【发明公布】光波导制备方法_歌尔股份有限公司_202011094109.8 

申请/专利权人:歌尔股份有限公司

申请日:2020-10-14

公开(公告)日:2020-11-24

公开(公告)号:CN111983751A

主分类号:G02B6/124(20060101)

分类号:G02B6/124(20060101);G02B6/13(20060101)

优先权:

专利状态码:失效-发明专利申请公布后的驳回

法律状态:2021.10.29#发明专利申请公布后的驳回;2020.12.11#实质审查的生效;2020.11.24#公开

摘要:本发明公开一种光波导制备方法,其中,所述光波导制备方法包括以下步骤:提供一衬底;于所述衬底上涂覆纳米压印胶,对所述纳米压印胶进行纳米压印,以形成光栅图形;于所述光栅图形背向所述衬底的表面制作光栅层,所述光栅层为无机材料制成;保留所述光栅图形的光栅凹槽内的光栅层,除去所述光栅图形的纳米压印胶以及纳米压印胶表面的光栅层,以使保留的光栅层形成目标光栅。本发明通过采用无机材料制成光栅层,形成目标光栅之后,可以使目标光栅具有更好的耐高温性能,不会出现长期使用后产生变色的问题;无机材料构成的目标光栅相对硬度较高,不需要单独设置用于保护目标光栅的结构,进而可以简化光波导的结构。

主权项:1.一种光波导制备方法,其特征在于,所述光波导制备方法包括以下步骤:提供一衬底;于所述衬底上涂覆纳米压印胶,对所述纳米压印胶进行纳米压印,以形成光栅图形;于所述光栅图形背向所述衬底的表面制作光栅层,所述光栅层为无机材料制成;保留所述光栅图形的光栅凹槽内的光栅层,除去所述光栅图形的纳米压印胶以及纳米压印胶表面的光栅层,以使保留的光栅层形成目标光栅。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 歌尔股份有限公司 光波导制备方法

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