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【发明授权】保护盖及溅射装置_深圳市华星光电技术有限公司_201811459031.8 

申请/专利权人:深圳市华星光电技术有限公司

申请日:2018-11-30

公开(公告)日:2020-11-24

公开(公告)号:CN109554675B

主分类号:C23C14/35(20060101)

分类号:C23C14/35(20060101)

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2020.11.24#授权;2019.04.26#实质审查的生效;2019.04.02#公开

摘要:本发明提供一种保护盖及溅射装置。本发明的保护盖包括盖体及壁体,壁体包括两个对接的半环状的子壁体,两个子壁体的第一端面分别设有第一突出部及第一凹槽,第一突出部与第一凹槽相配合,两个子壁体的第二端面分别设有第二突出部及第二凹槽,第二突出部与第二凹槽相配合,使得该保护盖的密封性大大增强,从而将该保护盖应用于溅射装置时,将两个保护盖分别套设在靶材的两端,在两个保护盖的壁体及靶材之间分别设置两个绝缘件,即使保护盖与靶材发生相对转动,绝缘件中的绝缘块也不会外露,避免由于绝缘块外露导致的保护盖与靶材导通使溅射装置产生电弧放电,提升产品的可靠性。

主权项:1.一种保护盖,其特征在于,包括盖体10及连接于盖体10一侧的环状的壁体20;所述盖体10包括两个对接的子盖体11;所述壁体20包括两个对接的半环状的子壁体21,两个子壁体21分别连接于两个子盖体11的一侧;每一子壁体21分别具有第一端面211及第二端面212,两个子壁体21的第一端面211相对,两个子壁体21的第二端面212相对;两个子壁体21的第一端面211分别设有第一突出部2111及第一凹槽2112,第一突出部2111与第一凹槽2112相配合;两个子壁体21的第二端面212分别设有第二突出部2121及第二凹槽2122,第二突出部2121与第二凹槽2122相配合。

全文数据:保护盖及溅射装置技术领域本发明涉及显示装置制造技术领域,尤其涉及一种保护盖及磁控溅射装置。背景技术液晶显示器LiquidCrystalDisplay,LCD等平面显示装置因具有高画质、省电、机身薄及应用范围广等优点,而被广泛的应用于手机、电视、个人数字助理、数字相机、笔记本电脑、台式计算机等各种消费性电子产品,成为显示装置中的主流。液晶显示器包括液晶显示面板及背光模组backlightmodule。液晶显示面板的结构是由一彩色滤光片基板ColorFilterSubstrate,CFSubstrate、一薄膜晶体管阵列基板ThinFilmTransistorArraySubstrate,TFTArraySubstrate以及一配置于两基板间的液晶层LiquidCrystalLayer所构成,其中在阵列基板上有许多竖直和水平的细小电线。液晶显示面板的工作原理是通过在两片玻璃基板上施加驱动电压来控制液晶层的液晶分子的旋转,将背光模组的光线折射出来产生画面。在TFT-LCD产品中,像素电极以及公共电极等膜层的材料一般为氧化铟锡ITO,ITO层一般通过磁控溅射的方式进行制作。请参阅图1及图2,现有的溅射装置包括筒状的靶材1000、套设在靶材1000两端的两个保护盖2000及分别对应设于两个保护盖2000与靶材1000之间的绝缘件3000。每一保护盖2000包括盖体2100及设于盖体2100靠近靶材1000一侧的环状的壁体2200,盖体2100包括两个对接的子盖体2110,壁体2200包括两个对接的半环状的子壁体2210,两个子壁体2210分别连接于两个子盖体2110靠近靶材1000的一侧,两个子壁体2210之间形成直线状的两个间隙2300。每一绝缘件3000设置在对应的保护盖2000的壁体2200与靶材1000之间,每一绝缘件3000包括间隔设置的多个绝缘块3100。正常安装时,需要将绝缘件3000的多个绝缘块3100与对应的保护盖2000的间隙2300错开设置,但该溅射装置在工作时,靶材1000进行旋转,如图3所示,容易导致保护盖2000与靶材1000之间发生相对的转动,从而出现绝缘件3000中的某一绝缘块3100与保护盖2000的间隙2300相对的问题,导致绝缘块3100外露,使得进行溅射镀膜过程中外露的绝缘块3100上会溅射形成导电膜,将保护盖2000与靶材1000导通,产生电弧放电arcing,影响装置的稳定性。发明内容本发明的目的在于提供一种保护盖,能够避免溅射装置中的绝缘块外露,防止溅射装置产生电弧放电。本发明的另一目的在于提供一种溅射装置,能够避免绝缘块外露,防止产生电弧放电。为实现上述目的,本发明首先提供一种保护盖,包括盖体及连接于盖体一侧的环状的壁体;所述盖体包括两个对接的子盖体;所述壁体包括两个对接的半环状的子壁体,两个子壁体分别连接于两个子盖体的一侧;每一子壁体分别具有第一端面及第二端面,两个子壁体的第一端面相对,两个子壁体的第二端面相对;两个子壁体的第一端面分别设有第一突出部及第一凹槽,第一突出部与第一凹槽相配合;两个子壁体的第二端面分别设有第二突出部及第二凹槽,第二突出部与第二凹槽相配合。两个子壁体中的一个子壁体的第一端面及第二端面于靠近壁体中心线的一侧分别设有第一突出部及第二突出部,使得该一个子壁体的第一端面及第二端面于远离壁体中心线的一侧分别形成第三凹槽及第四凹槽;两个子壁体中的另一个子壁体的第一端面及第二端面于远离壁体中心线的一侧分别设有第三突出部及第四突出部,使得该另一个子壁体的第一端面及第二端面在靠近壁体中心线的一侧形成第一凹槽及第二凹槽;第三突出部与第三凹槽相配合,第四突出部与第四凹槽相配合。所述盖体为圆形;所述壁体呈圆环状;所述盖体的中心线与壁体的中心线重合。所述盖体与壁体连接的侧面被壁体所围区域及所述壁体的内侧面均经过抛光处理;所述盖体与壁体连接的侧面被壁体所围区域及所述壁体的内侧面的表面粗糙度均小于等于0.5。本发明还提供一种溅射装置,包括筒状的靶材、套设在靶材两端的两个保护盖及分别对应设于两个保护盖与靶材之间的两个绝缘件;每一保护盖包括盖体及连接于盖体靠近靶材一侧的环状的壁体;所述壁体位于靶材的外侧;所述盖体包括两个对接的子盖体;所述壁体包括两个对接的半环状的子壁体,两个子壁体分别连接于两个子盖体靠近靶材的一侧;每一子壁体分别具有第一端面及第二端面,两个子壁体的第一端面相对,两个子壁体的第二端面相对;两个子壁体的第一端面分别设有第一突出部及第一凹槽,第一突出部与第一凹槽相配合;两个子壁体的第二端面分别设有第二突出部及第二凹槽,第二突出部与第二凹槽相配合;每一绝缘件设于对应的保护盖的壁体与靶材之间。两个子壁体中的一个子壁体的第一端面及第二端面于靠近壁体中心线的一侧分别设有第一突出部及第二突出部,使得该一个子壁体的第一端面及第二端面于远离壁体中心线的一侧分别形成第三凹槽及第四凹槽;两个子壁体中的另一个子壁体的第一端面及第二端面于远离壁体中心线的一侧分别设有第三突出部及第四突出部,使得该另一个子壁体的第一端面及第二端面在靠近壁体中心线的一侧形成第一凹槽及第二凹槽;第三突出部与第三凹槽相配合,第四突出部与第四凹槽相配合。所述盖体为圆形;所述壁体呈圆环状;所述靶材呈圆筒状;所述盖体的中心线、壁体的中心线、靶材的中心线重合。每一保护盖中,所述盖体与壁体连接的侧面被壁体所围区域及所述壁体的内侧面均经过抛光处理;所述盖体与壁体连接的侧面被壁体所围区域及所述壁体的内侧面的表面粗糙度均小于等于0.5。每一保护盖的壁体与靶材的间距为2mm。每一绝缘件包括均匀间隔设置的多个绝缘块。本发明的有益效果:本发明的保护盖包括盖体及壁体,壁体包括两个对接的半环状的子壁体,两个子壁体的第一端面分别设有第一突出部及第一凹槽,第一突出部与第一凹槽相配合,两个子壁体的第二端面分别设有第二突出部及第二凹槽,第二突出部与第二凹槽相配合,使得该保护盖的密封性大大增强,从而将该保护盖应用于溅射装置时,将两个保护盖分别套设在靶材的两端,在两个保护盖的壁体及靶材之间分别设置两个绝缘件,即使保护盖与靶材发生相对转动,绝缘件中的绝缘块也不会外露,避免由于绝缘块外露导致的保护盖与靶材导通使溅射装置产生电弧放电,提升产品的可靠性。本发明的溅射装置能够避免绝缘块外露,防止产生电弧放电。附图说明为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容,请参阅以下有关本发明的详细说明与附图,然而附图仅提供参考与说明用,并非用来对本发明加以限制。附图中,图1为现有的溅射装置的主视示意图;图2为沿图1中的A-A’线的剖视示意图;图3为现有的溅射装置的保护盖与靶材发生相对旋转的示意图;图4为本发明的保护罩的主视示意图;图5为沿图4中的B-B’线的剖视示意图;图6为本发明的溅射装置的主视示意图;图7为沿图6中的E-E’线的剖视示意图;图8为图5及图7中C处的放大示意图;图9为图5及图7中D处的放大示意图。具体实施方式为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果,以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。请参阅图4及图5,并结合图8及图9,本发明提供一种保护盖,包括盖体10及连接于盖体10一侧的环状的壁体20。所述盖体10包括两个对接的子盖体11。所述壁体20包括两个对接的半环状的子壁体21,两个子壁体21分别连接于两个子盖体11的一侧。请参阅图8及图9,每一子壁体21分别具有第一端面211及第二端面212,两个子壁体21的第一端面211相对,两个子壁体21的第二端面212相对。两个子壁体21的第一端面211分别设有第一突出部2111及第一凹槽2112,第一突出部2111与第一凹槽2112相配合。两个子壁体21的第二端面212分别设有第二突出部2121及第二凹槽2122,第二突出部2121与第二凹槽2122相配合。具体地,请参阅图8及图9,两个子壁体21中的一个子壁体21的第一端面211及第二端面212于靠近壁体20中心线的一侧分别设有第一突出部2111及第二突出部2121,使得该一个子壁体21的第一端面211及第二端面212于远离壁体20中心线的一侧分别形成第三凹槽2113及第四凹槽2123。两个子壁体21中的另一个子壁体21的第一端面211及第二端面212于远离壁体20中心线的一侧分别设有第三突出部2114及第四突出部2124,使得该另一个子壁体21的第一端面211及第二端面212在靠近壁体20中心线的一侧形成第一凹槽2112及第二凹槽2122。第三突出部2114与第三凹槽2113相配合,第四突出部2124与第四凹槽2123相配合。具体地,所述盖体10为圆形,所述壁体20呈圆环状,所述盖体10的中心线与壁体20的中心线重合。具体地,所述盖体10与壁体20连接的侧面被壁体20所围区域及所述壁体20的内侧面均经过抛光处理,盖体10与壁体20连接的侧面被壁体20所围区域及所述壁体20的内侧面的表面粗糙度均小于等于0.5,从而将该保护盖套设在筒状的靶材两端时,盖体10与壁体20连接的侧面被壁体20所围区域及所述壁体20的内侧面的表面同靶材表面不会产生尖端放电。需要说明的是,请结合图6及图7,本发明的保护盖应用于溅射装置中,并且套设在溅射装置的靶材1的两端,并且保护盖的壁体20与靶材1之间还设置有包括多个绝缘块51的绝缘件5,请参阅图8及图9,本发明中,通过在两个子壁体21相对的第一端面211分别设置第一突出部2111及第一凹槽2112,第一突出部2111与第一凹槽2112相配合,同时两个子壁体21的相对的第二端面212分别设有第二突出部2121及第二凹槽2122,第二突出部2121与第二凹槽2122相配合,从而在本发明中,由两个子壁体21相对的端面形成的间隙分为不在同一直线的多段,不再是现有技术中的呈直线状的间隙,从而本发明的保护盖的密封性大大提升,即使溅射装置使用时,靶材1与保护盖之间产生相对旋转,但由于本发明中由两个子壁体21相对的端面形成的间隙分为不在同一直线的多段,无论靶材1与保护盖之间的相对位置如何,绝缘件5中的绝缘块51均不会直接被保护盖暴露出来,因此溅射过程中不会在绝缘件5的绝缘块51上形成导电膜,在绝缘块51所在位置不会发生靶材1与保护盖导通的情况,因而消除了由于绝缘块51外露导致的保护盖与靶材1导通使溅射装置产生电弧放电的问题,提升产品的可靠性。请参阅图6、图7,并结合图8、图9,基于同一发明构思,本发明还提供一种溅射装置,包括筒状的靶材1、套设在靶材1两端的两个保护盖3及分别对应设于两个保护盖3与靶材1之间的两个绝缘件5。每一保护盖3包括盖体10及连接于盖体10靠近靶材1一侧的环状的壁体20。所述壁体20位于靶材1的外侧。所述盖体10包括两个对接的子盖体11。所述壁体20包括两个对接的半环状的子壁体21,两个子壁体21分别连接于两个子盖体11靠近靶材1的一侧。每一子壁体21分别具有第一端面211及第二端面212,两个子壁体21的第一端面211相对,两个子壁体21的第二端面212相对。两个子壁体21的第一端面211分别设有第一突出部2111及第一凹槽2112,第一突出部2111与第一凹槽2112相配合。两个子壁体21的第二端面212分别设有第二突出部2121及第二凹槽2122,第二突出部2121与第二凹槽2122相配合。每一绝缘件5设于对应的保护盖3的壁体20与靶材1之间。具体地,请参阅图8及图9,每一保护盖3中,两个子壁体21中的一个子壁体21的第一端面211及第二端面212于靠近壁体20中心线的一侧分别设有第一突出部2111及第二突出部2121,使得该一个子壁体21的第一端面211及第二端面212于远离壁体20中心线的一侧分别形成第三凹槽2113及第四凹槽2123。两个子壁体21中的另一个子壁体21的第一端面211及第二端面212于远离壁体20中心线的一侧分别设有第三突出部2114及第四突出部2124,使得该另一个子壁体21的第一端面211及第二端面212在靠近壁体20中心线的一侧形成第一凹槽2112及第二凹槽2122,第三突出部2114与第三凹槽2113相配合,第四突出部2124与第四凹槽2123相配合。具体地,所述盖体10为圆形,所述壁体20呈圆环状,所述靶材1呈圆筒状,所述盖体10的中心线、壁体20的中心线、靶材1的中心线重合。具体地,每一保护盖3中,所述盖体10与壁体20连接的侧面被壁体20所围区域及所述壁体20的内侧面均经过抛光处理,盖体10与壁体20连接的侧面被壁体20所围区域及所述壁体20的内侧面的表面粗糙度均小于等于0.5,从而盖体10与壁体20连接的侧面被壁体20所围区域及所述壁体20的内侧面的表面同靶材表面不会产生尖端放电。优选地,每一保护盖3的壁体20与靶材1的间距为2mm。具体地,每一绝缘件5包括均匀间隔设置的多个绝缘块51。需要说明的是,请参阅图8及图9,本发明中,通过在每一保护盖3的两个子壁体21相对的第一端面211分别设置第一突出部2111及第一凹槽2112,第一突出部2111与第一凹槽2112相配合,同时两个子壁体21的相对的第二端面212分别设有第二突出部2121及第二凹槽2122,第二突出部2121与第二凹槽2122相配合,从而在本发明中,由两个子壁体21相对的端面形成的间隙分为不在同一直线的多段,不再是现有技术中的呈直线状的间隙,从而本发明的保护盖3的密封性大大提升,即使溅射装置使用时,靶材1与保护盖3之间产生相对旋转,但由于本发明中由两个子壁体21相对的端面形成的间隙分为不在同一直线的多段,无论靶材1与保护盖3之间的相对位置如何,绝缘件5中的绝缘块51均不会直接被保护盖3暴露出来,因此溅射过程中不会在绝缘件5的绝缘块51上形成导电膜,在绝缘块51所在位置不会发生靶材1与保护盖3导通的情况,因而消除了由于绝缘块51外露导致的保护盖3与靶材1导通使溅射装置产生电弧放电的问题,提升产品的可靠性。综上所述,本发明的保护盖包括盖体及壁体,壁体包括两个对接的半环状的子壁体,两个子壁体的第一端面分别设有第一突出部及第一凹槽,第一突出部与第一凹槽相配合,两个子壁体的第二端面分别设有第二突出部及第二凹槽,第二突出部与第二凹槽相配合,使得该保护盖的密封性大大增强,从而将该保护盖应用于溅射装置时,将两个保护盖分别套设在靶材的两端,在两个保护盖的壁体及靶材之间分别设置两个绝缘件,即使保护盖与靶材发生相对转动,绝缘件中的绝缘块也不会外露,避免由于绝缘块外露导致的保护盖与靶材导通使溅射装置产生电弧放电,提升产品的可靠性。本发明的溅射装置能够避免绝缘块外露,防止产生电弧放电。以上所述,对于本领域的普通技术人员来说,可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形,而所有这些改变和变形都应属于本发明权利要求的保护范围。

权利要求:1.一种保护盖,其特征在于,包括盖体10及连接于盖体10一侧的环状的壁体20;所述盖体10包括两个对接的子盖体11;所述壁体20包括两个对接的半环状的子壁体21,两个子壁体21分别连接于两个子盖体11的一侧;每一子壁体21分别具有第一端面211及第二端面212,两个子壁体21的第一端面211相对,两个子壁体21的第二端面212相对;两个子壁体21的第一端面211分别设有第一突出部2111及第一凹槽2112,第一突出部2111与第一凹槽2112相配合;两个子壁体21的第二端面212分别设有第二突出部2121及第二凹槽2122,第二突出部2121与第二凹槽2122相配合。2.如权利要求1所述的保护盖,其特征在于,两个子壁体21中的一个子壁体21的第一端面211及第二端面212于靠近壁体20中心线的一侧分别设有第一突出部2111及第二突出部2121,使得该一个子壁体21的第一端面211及第二端面212于远离壁体20中心线的一侧分别形成第三凹槽2113及第四凹槽2123;两个子壁体21中的另一个子壁体21的第一端面211及第二端面212于远离壁体20中心线的一侧分别设有第三突出部2114及第四突出部2124,使得该另一个子壁体21的第一端面211及第二端面212在靠近壁体20中心线的一侧形成第一凹槽2112及第二凹槽2122;第三突出部2114与第三凹槽2113相配合,第四突出部2124与第四凹槽2123相配合。3.如权利要求1所述的保护盖,其特征在于,所述盖体10为圆形;所述壁体20呈圆环状;所述盖体10的中心线与壁体20的中心线重合。4.如权利要求1所述的保护盖,其特征在于,所述盖体10与壁体20连接的侧面被壁体20所围区域及所述壁体20的内侧面均经过抛光处理;所述盖体10与壁体20连接的侧面被壁体20所围区域及所述壁体20的内侧面的表面粗糙度均小于等于0.5。5.一种溅射装置,其特征在于,包括筒状的靶材1、套设在靶材1两端的两个保护盖3及分别对应设于两个保护盖3与靶材1之间的两个绝缘件5;每一保护盖3包括盖体10及连接于盖体10靠近靶材1一侧的环状的壁体20;所述壁体20位于靶材1的外侧;所述盖体10包括两个对接的子盖体11;所述壁体20包括两个对接的半环状的子壁体21,两个子壁体21分别连接于两个子盖体11靠近靶材1的一侧;每一子壁体21分别具有第一端面211及第二端面212,两个子壁体21的第一端面211相对,两个子壁体21的第二端面212相对;两个子壁体21的第一端面211分别设有第一突出部2111及第一凹槽2112,第一突出部2111与第一凹槽2112相配合;两个子壁体21的第二端面212分别设有第二突出部2121及第二凹槽2122,第二突出部2121与第二凹槽2122相配合;每一绝缘件5设于对应的保护盖3的壁体20与靶材1之间。6.如权利要求5所述的溅射装置,其特征在于,每一保护盖3中,两个子壁体21中的一个子壁体21的第一端面211及第二端面212于靠近壁体20中心线的一侧分别设有第一突出部2111及第二突出部2121,使得该一个子壁体21的第一端面211及第二端面212于远离壁体20中心线的一侧分别形成第三凹槽2113及第四凹槽2123;两个子壁体21中的另一个子壁体21的第一端面211及第二端面212于远离壁体20中心线的一侧分别设有第三突出部2114及第四突出部2124,使得该另一个子壁体21的第一端面211及第二端面212在靠近壁体20中心线的一侧形成第一凹槽2112及第二凹槽2122;第三突出部2114与第三凹槽2113相配合,第四突出部2124与第四凹槽2123相配合。7.如权利要求5所述的溅射装置,其特征在于,所述盖体10为圆形;所述壁体20呈圆环状;所述靶材1呈圆筒状;所述盖体10的中心线、壁体20的中心线、靶材1的中心线重合。8.如权利要求5所述的溅射装置,其特征在于,每一保护盖3中,所述盖体10与壁体20连接的侧面被壁体20所围区域及所述壁体20的内侧面均经过抛光处理;所述盖体10与壁体20连接的侧面被壁体20所围区域及所述壁体20的内侧面的表面粗糙度均小于等于0.5。9.如权利要求5所述的溅射装置,其特征在于,每一保护盖3的壁体20与靶材1的间距为2mm。10.如权利要求5所述的溅射装置,其特征在于,每一绝缘件5包括均匀间隔设置的多个绝缘块51。

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