申请/专利权人：源能智创(江苏)半导体有限公司

申请日：2019-12-31

公开（公告）日：2020-11-24

公开（公告）号：CN212009275U

主分类号：G03F7/20(20060101)

分类号：G03F7/20(20060101)

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2020.11.24#授权

摘要：本实用新型公开了一种真空吸附台面及曝光机，真空吸附台面包括台面主体、遮盖面板、面板驱动装置，台面主体在X轴方向和Y轴方向上分布有吸附孔；遮盖面板覆盖在台面主体上，遮盖面板伸缩设置且伸缩方向为Y轴方向；面板驱动装置驱动遮盖面板伸缩。曝光机包括真空吸附台面、曝光镜头、支架和运动组件，真空吸附台面安装在运动组件上并在运动组件的驱动下在支架的下方运动，曝光镜头安装在支架上。本实用新型提供的真空吸附台面及曝光机，通过遮盖面板遮盖多余的吸附孔，以避免破真空吸附力不够，使其适用于不同大小的工件，节省了人力，也提高了稳定性，提高了产能。

主权项：1.一种真空吸附台面，其特征在于，包括：台面主体，所述台面主体在X轴方向和Y轴方向上分布有吸附孔；遮盖面板，所述遮盖面板覆盖在所述台面主体上，所述遮盖面板伸缩设置且伸缩方向为Y轴方向，所述遮盖面板伸缩以控制所述遮盖面板遮盖所述台面主体的面积；面板驱动装置，所述面板驱动装置驱动所述遮盖面板伸缩。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 源能智创(江苏)半导体有限公司 一种真空吸附台面及曝光机

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