申请/专利权人:深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
申请日:2020-08-11
公开(公告)日:2020-11-27
公开(公告)号:CN112002708A
主分类号:H01L27/12(20060101)
分类号:H01L27/12(20060101);H01L21/77(20170101)
优先权:
专利状态码:有效-授权
法律状态:2023.04.07#授权;2020.12.15#实质审查的生效;2020.11.27#公开
摘要:本申请提供一种阵列基板,其包括基底、衬底结构层、薄膜晶体管功能层和至少一压应力中和层,所述衬底结构层设置于所述基底上;所述薄膜晶体管功能层设置于所述衬底结构层上;所述压应力中和层至少集成在所述衬底结构层上,所述压应力中和层的张应力大于压应力。本申请改善了因氧化硅膜层的压应力大于张应力而发生的翘曲现象,提升了产品良率。
主权项:1.一种阵列基板,其特征在于,包括:基底;衬底结构层,所述衬底结构层设置于所述基底上;薄膜晶体管功能层,所述薄膜晶体管功能层设置于所述衬底结构层上;以及至少一压应力中和层,所述压应力中和层至少集成在所述衬底结构层上,所述压应力中和层的张应力大于压应力。
全文数据:
权利要求:
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