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【发明公布】光致抗蚀剂图案修整组合物以及图案形成方法_罗门哈斯电子材料有限责任公司_202010418180.0 

申请/专利权人:罗门哈斯电子材料有限责任公司

申请日:2020-05-18

公开(公告)日:2020-12-01

公开(公告)号:CN112015048A

主分类号:G03F7/004(20060101)

分类号:G03F7/004(20060101);H01L21/027(20060101)

优先权:["20190531 US 62/855909"]

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2020.12.18#实质审查的生效;2020.12.01#公开

摘要:光致抗蚀剂图案修整组合物包含聚合物、芳香族磺酸和基于有机溶剂的体系,其中所述芳香族磺酸具有通式I:其中:Ar1表示芳香族基团;R1独立地表示卤素原子、羟基、取代或未取代的烷基、取代或未取代的杂烷基、取代或未取代的碳环芳基、取代或未取代的杂环芳基、取代或未取代的烷氧基、或其组合,其中相邻的R1基团与Ar1一起任选地形成稠环结构;a表示2或更大的整数;并且b表示1或更大的整数,前提是a+b至少是3并且不大于Ar1的可用芳香族碳原子的总数,并且R1中的两个或更多个独立地是直接键合至芳香族环碳原子的氟原子或氟烷基。

主权项:1.一种光致抗蚀剂图案修整组合物,其包含聚合物、芳香族磺酸和基于有机溶剂的体系,其中所述芳香族磺酸具有通式I: 其中:Ar1表示取代或未取代的芳香族基团;R1独立地表示卤素原子、羟基、取代或未取代的烷基、取代或未取代的杂烷基、取代或未取代的碳环芳基、取代或未取代的杂环芳基、取代或未取代的烷氧基、或其组合,其中相邻的R1基团与Ar1一起任选地形成稠环结构;a表示2或更大的整数;并且b表示1或更大的整数,前提是a+b至少是3并且不大于Ar1的可用芳香族碳原子的总数,并且R1中的两个或更多个独立地是直接键合至芳香族环碳原子的氟原子或氟烷基。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 罗门哈斯电子材料有限责任公司 光致抗蚀剂图案修整组合物以及图案形成方法

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