申请/专利权人：罗门哈斯电子材料有限责任公司

申请日：2020-05-26

公开（公告）日：2020-12-01

公开（公告）号：CN112015050A

主分类号：G03F7/004(20060101)

分类号：G03F7/004(20060101);H01L21/027(20060101)

优先权：["20190531 US 62/855902"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2020.12.18#实质审查的生效;2020.12.01#公开

摘要：光致抗蚀剂图案修整组合物包含聚合物、芳香族磺酸和基于有机物的溶剂体系，其中所述聚合物包含具有通式I和II的聚合单元：其中：X独立地表示卤素原子；Q表示单键、‑O‑或‑COO‑；R1独立地表示氢、卤素原子、C1‑C12烷基或C1‑C12氟烷基；R2表示C1‑C3烷基或C1‑C3氟烷基；并且m是0至4的整数；并且其中基于所述聚合物的总聚合单元，具有通式I的聚合单元以10至90mol％的量存在于所述聚合物中，并且具有通式II的聚合单元以10至60mol％的量存在于所述聚合物中。所述光致抗蚀剂图案修整组合物及其在图案形成方法中的使用特别适用于半导体装置的制造。

主权项：1.一种光致抗蚀剂图案修整组合物，其包含聚合物、芳香族磺酸和基于有机物的溶剂体系，其中所述聚合物包含具有通式I和II的聚合单元： 其中：X独立地表示卤素原子；Q表示单键、-O-或-COO-；R1独立地表示氢、卤素原子、C1-C12烷基或C1-C12氟烷基，其中所述烷基或氟烷基是未取代的或被羟基取代的；R2表示氢，C1-C3烷基或C1-C3氟烷基；并且m是0至4的整数；并且其中基于所述聚合物的总聚合单元，具有通式I的聚合单元以10至90mol％的量存在于所述聚合物中，并且具有通式II的聚合单元以10至60mol％的量存在于所述聚合物中。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 罗门哈斯电子材料有限责任公司 光致抗蚀剂图案修整组合物以及图案形成方法

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