申请/专利权人：爱发科成膜株式会社

申请日：2020-05-26

公开（公告）日：2020-12-01

公开（公告）号：CN112015044A

主分类号：G03F1/32(20120101)

分类号：G03F1/32(20120101)

优先权：["20190528 JP 2019-099375","20200317 JP 2020-046414"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2022.04.29#实质审查的生效;2020.12.01#公开

摘要：本发明涉及一种掩模坯、半色调掩模、制造方法、制造装置。本发明的掩模坯具备：透明基板；半色调层，层压在该透明基板的表面上且以Cr为主成分；蚀刻停止层，层压在所述半色调层上；和遮光层，层压在所述蚀刻停止层上且以Cr为主成分，所述半色调层具有：耐化学药品层，位于厚度方向的最表面位置，氧的组成比高于铬的组成比和氮的组成比；和光学特性层，位于厚度方向上贴近所述透明基板的位置，氧的组成比低于铬的组成比和氮的组成比，确保光学特性。

主权项：1.一种掩模坯，其特征在于，具备：透明基板；半色调层，层压在该透明基板的表面上且以Cr为主成分；蚀刻停止层，层压在所述半色调层上；和遮光层，层压在所述蚀刻停止层上且以Cr为主成分，所述半色调层具有：耐化学药品层，位于厚度方向的最表面位置，氧的组成比高于铬的组成比和氮的组成比；和光学特性层，位于厚度方向的贴近所述透明基板的位置，氧的组成比低于铬的组成比和氮的组成比，确保光学特性。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 爱发科成膜株式会社 掩模坯、半色调掩模、制造方法、制造装置

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