申请/专利权人：东京毅力科创株式会社

申请日：2020-01-22

公开（公告）日：2020-12-01

公开（公告）号：CN212062395U

主分类号：H01L21/67(20060101)

分类号：H01L21/67(20060101);H01L21/677(20060101)

优先权：["20190124 JP 2019-009831"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2020.12.01#授权

摘要：本实用新型提供基板处理装置和基板处理系统。使光学检测供向基板供给的流体流通的供给路径中的异物的基板处理装置小型化。基板处理装置包括：供给路径，其供向基板供给的流体流通；以及异物检测单元，所述供给路径的局部构成流路形成部，该异物检测单元利用投光部形成有朝向该流路形成部的光，作为其结果，自所述流路形成部发出光，该异物检测单元能够基于受光部接收自所述流路形成部发出的光而得到的信号来检测所述流体中的异物，其中，所述异物检测单元中的所述投光部和所述受光部设于以所述流路形成部为基准的上下左右前后的区域中的不相对的区域。

主权项：1.一种基板处理装置，该基板处理装置包括：供给路径，其供向基板供给的流体流通；以及异物检测单元，所述供给路径的局部构成流路形成部，该异物检测单元利用投光部形成有朝向该流路形成部的光，作为其结果，自所述流路形成部发出光，该异物检测单元能够基于受光部接收自所述流路形成部发出的光而得到的信号来检测所述流体中的异物，其特征在于，所述异物检测单元中的所述投光部和所述受光部设于以所述流路形成部为基准的上下左右前后的区域中的不相对的区域。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 东京毅力科创株式会社 基板处理装置和基板处理系统

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