申请/专利权人：晶芯成(北京)科技有限公司

申请日：2020-11-27

公开（公告）日：2021-01-05

公开（公告）号：CN112180677A

主分类号：G03F1/36(20120101)

分类号：G03F1/36(20120101)

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2021.04.27#授权;2021.01.22#实质审查的生效;2021.01.05#公开

摘要：本发明一种光学邻近校正模型的建模方法及建模系统，其至少包括以下步骤：绘制待测量区图形；根据所述待测量区图形，制作测试光罩；建立光学邻近校正初版模型；根据所述光学邻近校正初版模型模拟所述待测量区图形；根据所述待测试图形进行第一次数据处理，获取所述待测量区图形对应的无效晶圆数据；收集除所述无效晶圆数据外的剩余晶圆数据；对所述剩余晶圆数据进行第二次数据处理，获取有效建模晶圆数据；根据所述有效建模晶圆数据建立光学邻近校正模型。本发明解决了光学邻近校正模型建模时间长，建模的效率和准确度低，浪费人力和时间成本的问题。

主权项：1.一种光学邻近校正模型的建模方法，其特征在于，其至少包括以下步骤：绘制待测量区图形；根据所述待测量区图形，制作测试光罩；建立光学邻近校正初版模型；根据所述光学邻近校正初版模型，模拟所述待测量区图形；对所述待测量区图形进行第一次数据处理，获取所述待测量区图形对应的无效晶圆数据；收集除所述无效晶圆数据外的剩余晶圆数据；对所述剩余晶圆数据进行第二次数据处理，获取有效建模晶圆数据；根据所述有效建模晶圆数据，建立所述光学邻近校正模型。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 晶芯成(北京)科技有限公司 一种光学邻近校正模型的建模方法及建模系统

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