申请/专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司

申请日：2019-05-08

公开（公告）日：2021-01-05

公开（公告）号：CN112189064A

主分类号：C30B11/00(20060101)

分类号：C30B11/00(20060101);C30B11/02(20060101);C30B11/14(20060101);C30B29/06(20060101);C30B29/08(20060101);G02C7/00(20060101)

优先权：["20180517 DE 102018207759.2"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2021.06.04#实质审查的生效;2021.01.05#公开

摘要：本发明关于用以制作用于光学元件11的基板10的方法，其包含：引入起始材料较佳为金属或半金属至容器中并熔化该起始材料、通过从配置于容器的基座的区域中的多个单晶晶种盘开始定向地固化熔化的起始材料来制作具有准单晶体积区域8的材料体、以及通过处理材料体来制作基板10，以形成光学表面12。本发明还关于反射光学元件11，特别是用以反射EUV辐射14，其包含：具有光学表面12的基板10，其中反射涂层13施加于光学表面12上。基板10一般是根据前述方法制作且具有准单晶体积区域8。

主权项：1.一种用以制作用于光学元件11的基板10的方法，包含：将起始材料5引入至容器1中并熔化该起始材料5，该起始材料较佳为金属或半金属；通过从配置于该容器1的基座2的区域中的多个单晶晶种盘4开始定向地固化该熔化的起始材料5来制作具有准单晶体积区域8的材料体7、7a；以及通过处理该材料体7、7a来制作该基板10，以形成光学表面12。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 卡尔蔡司SMT有限责任公司 制作用于光学元件的基板的方法以及反射光学元件

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