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【发明公布】一种低硅、低镁杂质合金深度脱硅、脱镁方法_衢州华友钴新材料有限公司;浙江华友钴业股份有限公司;衢州华友资源再生科技有限公司_202011018868.6 

申请/专利权人:衢州华友钴新材料有限公司;浙江华友钴业股份有限公司;衢州华友资源再生科技有限公司

申请日:2020-09-24

公开(公告)日:2021-01-05

公开(公告)号:CN112176192A

主分类号:C22B7/00(20060101)

分类号:C22B7/00(20060101);C22B9/10(20060101)

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2022.06.10#授权;2021.01.22#实质审查的生效;2021.01.05#公开

摘要:本发明公开了一种低硅、低镁杂质合金深度脱硅、脱镁方法。本发明采用的方法为:1)合金熔化:将合金加入中频炉,升温熔化;2)通氧吹炼:合金熔化后,中频炉断电,将吹氧管插入熔体中,利用空压机进行鼓气吹炼,并加入硅石造渣,空气流量4~6m3h;3)升温加热:吹炼火光呈红色时,需停止吹炼,重新通电升温,将中频炉中物料熔化;4)出渣:将炉中造出的渣舀出,再回到步骤2、步骤3和步骤4,至空气量耗完结束;5)出合金:停止吹炼,将中频炉中的熔体倾倒至坩埚中,待冷却至室温取出,将样品取出进行渣铁分离,所述合金产品中硅、镁含量控制在0.05%以下。本发明主要是将含硅镁杂质的合金进行精炼,使得硅、镁含量均低于0.05%,且钴镍的回收率大于96%。

主权项:1.一种低硅、低镁杂质合金深度脱硅、脱镁方法,所述低硅、低镁杂质合金成分含有:Co、Ni、Mn、Fe、S、Cu、Mg、Si,其中Mg0.1-1%、Si0.1-2%,其特征在于,包括以下步骤:1)合金熔化:将合金加入中频炉,升温熔化,温度1300~1500℃;2)通氧吹炼:合金熔化后,中频炉断电,将吹氧管插入熔体中,利用空压机进行鼓气吹炼,并加入硅石造渣,空气流量4~6m3h;3)升温加热:由于中频炉散热快,吹炼一段时间后,吹炼火光呈红色时,需停止吹炼,重新通电升温,将中频炉中物料熔化;4)出渣:将炉中造出的渣舀出,再回到步骤2、步骤3和步骤4,至空气量耗完结束;5)出合金:停止吹炼,将中频炉中的熔体倾倒至坩埚中,待冷却至室温取出,将样品取出进行渣铁分离,所述合金产品中硅、镁含量控制在0.05%以下。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 衢州华友钴新材料有限公司;浙江华友钴业股份有限公司;衢州华友资源再生科技有限公司 一种低硅、低镁杂质合金深度脱硅、脱镁方法

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