申请/专利权人：广州多浦乐电子科技股份有限公司

申请日：2020-09-25

公开（公告）日：2021-01-05

公开（公告）号：CN112179992A

主分类号：G01N29/24(20060101)

分类号：G01N29/24(20060101);G01N29/26(20060101)

优先权：

专利状态码：失效-发明专利申请公布后的驳回

法律状态：2022.05.13#发明专利申请公布后的驳回;2021.01.22#实质审查的生效;2021.01.05#公开

摘要：本发明公开了一种中心自聚焦圆环阵探头，包括：中心晶片，用于实现工件表层的单元点自聚焦扫查；环形晶片，通过电子聚焦实现工件深度方向上的聚焦扫查；所述环形晶片套装设置在所述中心晶片外并与所述中心晶片同轴；所述环形晶片设为至少两个，所有的所述环形晶片的外径与内径之差相等。本发明的中心自聚焦圆环阵探头，通过设置中心晶片，利用中心晶片实现工件表层的自聚焦扫查，以覆盖工件近表面的检测要求；通过设置环形晶片，利用电子聚焦，可实现工件深度方向上的聚焦扫查，以满足工件深度较深的区域的检测要求；即本发明的中心自聚焦圆环阵探头，可满足全深度高效高分辨力水浸自动化扫查的要求。

主权项：1.一种中心自聚焦圆环阵探头，其特征在于：包括：中心晶片，用于实现工件表层的单元点自聚焦扫查；环形晶片，通过电子聚焦实现工件深度方向上的聚焦扫查；所述环形晶片套装设置在所述中心晶片外并与所述中心晶片同轴；所述环形晶片设为至少两个，所有的所述环形晶片的外径与内径之差相等。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 广州多浦乐电子科技股份有限公司 中心自聚焦圆环阵探头

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