申请/专利权人:颀中科技(苏州)有限公司;北京奕斯伟科技有限公司;合肥奕斯伟封测技术有限公司
申请日:2020-07-06
公开(公告)日:2021-01-05
公开(公告)号:CN212302208U
主分类号:G03F7/16(20060101)
分类号:G03F7/16(20060101)
优先权:
专利状态码:有效-授权
法律状态:2021.01.05#授权
摘要:本实用新型公开了一种涂布机台,包括机台架、转动安装在机台架上的转轴、设置在转轴上的承载盘和罩设在承载盘外侧的防护罩;承载盘上设置有用于吸附晶圆的真空吸附机构,防护罩上具有支撑部、横向延伸部和连接支撑部和横向延伸部的弧形连接部,支撑部倾斜角度范围为60°到90°,且防护罩的材质为铝。与现有技术相比,本实用新型通过增大支撑部的倾斜的角度以及通过弧形连接部连接横向延伸部和支撑部从而扩大了防护罩内的空间,增强了光刻胶溶液在防护罩内的流动性提高了晶圆表面涂布胶的均匀性。同时,将防护罩的材质设置为铝,能够有效的将光刻胶溶液吸附在防护罩的内侧壁上从而避免出现防护罩上的光刻胶溶液向晶圆表面的方向反溅。
主权项:1.一种涂布机台,其特征在于:包括机台架、转动安装在所述机台架上的转轴、设置在所述转轴上的承载盘和罩设在所述承载盘外侧的防护罩;所述承载盘上设置有用于吸附晶圆的真空吸附机构;所述防护罩上具有支撑部、横向延伸部和连接所述支撑部和所述横向延伸部的弧形连接部,所述支撑部倾斜角度范围为60°到90°,且所述防护罩的材质为铝。
全文数据:
权利要求:
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