申请/专利权人：富士胶片株式会社

申请日：2019-05-17

公开（公告）日：2021-01-08

公开（公告）号：CN112203821A

主分类号：B29C33/42(20060101)

分类号：B29C33/42(20060101);B29C33/38(20060101);B29C59/02(20060101)

优先权：["20180530 JP 2018-103819"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2022.11.04#授权;2021.01.26#实质审查的生效;2021.01.08#公开

摘要：一种在表面具有微细的凹凸图案的图案原盘、图案原盘的制造方法、模具的制造方法及在表面具备凹凸结构的基体的制造方法，该图案原盘具备基体和设置在基体的一个表面上的凹凸结构层，基体的至少一个表面由具有蚀刻停止功能的材料制成，基体暴露于凹凸结构层的凹部中的至少一部分凹部的底部，凹凸图案中，与一个表面垂直的方向上的、凹凸图案的各凹部的底点位置的偏差为20nm以下。

主权项：1.一种图案原盘，其在表面具有微细的凹凸图案，该图案原盘具备基体和凹凸结构层，该凹凸结构层设置在该基体的一个面上、且包含沿着所述凹凸图案的多个凸部以及多个凹部，所述基体的至少所述一个面由具有蚀刻停止功能的材料制成，所述基体暴露于所述凹凸结构层的凹部中的至少一部分凹部的底部，在所述凹凸图案中，与所述一个面垂直的方向上的、所述凹凸图案的各凹部的底点位置的偏差为20nm以下。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 富士胶片株式会社 图案原盘、图案原盘的制造方法、模具的制造方法及基体的制造方法

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