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【发明公布】有机发光装置的光提取基材及其制造方法_康宁股份有限公司_201980036733.1 

申请/专利权人:康宁股份有限公司

申请日:2019-05-24

公开(公告)日:2021-01-08

公开(公告)号:CN112204763A

主分类号:H01L51/00(20060101)

分类号:H01L51/00(20060101);H01L51/52(20060101)

优先权:["20180528 KR 10-2018-0060322"]

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2021.06.11#实质审查的生效;2021.01.08#公开

摘要:一种有机发光装置的光提取基材。设置在基底基材110上的光散射层121包含第一材料,并且包括面向基底基材的第一表面,与第一表面相对的第二表面,以及在第一表面与第二表面之间延伸的多个孔121a。平面化层123被设置在光散射层121上,并且包含第二材料。第一材料和第二材料的折射率在1.8至2.6的范围内。当在与光散射层121的厚度方向垂直的平面上测量时,孔121a的直径在350nm至450nm的范围内。所述多个孔在第一表面中占据的面积与第一表面的面积的比值为至少40%。平面化层的厚度为200nm或更小。

主权项:1.一种有机发光装置的光提取基材,其包括:基底基材;光散射层,其设置在基底基材上,并且包含第一材料,所述光散射层包括面向基底基材的第一表面,以及与第一表面相对的第二表面,在光散射层中形成有多个孔,所述多个孔中的每个孔在第一表面与第二表面之间延伸;以及平面化层,其设置在光散射层上,并且包含第二材料,其中,第一材料和第二材料的折射率在1.8至2.6的范围内,当在与光散射层的厚度方向垂直的平面上测量时,所述多个孔的直径在350nm至450nm的范围内,所述多个孔在第一表面中占据的面积与第一表面的面积的比值为至少40%,并且平面化层的厚度为200nm或更小。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 康宁股份有限公司 有机发光装置的光提取基材及其制造方法

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