申请/专利权人：应用材料公司

申请日：2014-03-07

公开（公告）日：2021-01-08

公开（公告）号：CN112201594A

主分类号：H01L21/67(20060101)

分类号：H01L21/67(20060101);H01L21/687(20060101);C23C16/458(20060101);C30B25/12(20060101)

优先权：["20130315 US 61/788,920","20140305 US 14/197,699"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2021.01.26#实质审查的生效;2021.01.08#公开

摘要：本文提供用于增强处理均匀性和减少基板滑动的基座。在一些实施方式中，基板支撑件包括：基座板，所述基座板具有顶表面；凹槽，所述凹槽形成于顶表面内，其中所述凹槽由边缘界定；和多个倾斜支撑元件，所述多个倾斜支撑元件设置于凹槽内，且所述多个倾斜支撑元件沿凹槽的边缘设置，其中每一个倾斜支撑元件包括第一表面，所述第一表面朝向凹槽的中心向下倾斜。

主权项：1.一种基板支撑件，所述基板支撑件包括：基座板，所述基座板具有顶表面；中心凹槽，所述凹槽形成于所述顶表面内，其中所述凹槽由围绕所述凹槽的连续的边缘界定；和多个倾斜支撑元件，所述多个倾斜支撑元件设置于所述凹槽内，且所述多个支撑元件沿所述凹槽的所述连续的边缘设置，其中每一个倾斜支撑元件包括第一表面，所述第一表面朝向所述凹槽的中心向下倾斜并且所述第一表面从所述顶表面的所述边缘延伸至所述凹槽的表面，其中所述第一表面被配置成当基板设置在所述基板支撑件上时支撑所述基板的边缘，所述基板支撑件进一步包括位于所述凹槽中的多个升降销孔，以允许升降销模块穿过所述多个升降销孔的每一个，以升高或降低所述基板，其中所述倾斜支撑元件的至少一个沿所述基板支撑件的公共半径与升降销孔对准。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 应用材料公司 用于增强处理均匀性和减少基板滑动的基座

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD