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【发明公布】一种缓冲结构及其制作方法、复合缓冲结构和显示装置_武汉天马微电子有限公司_202011193983.7 

申请/专利权人:武汉天马微电子有限公司

申请日:2020-10-30

公开(公告)日:2021-01-08

公开(公告)号:CN112201168A

主分类号:G09F9/30(20060101)

分类号:G09F9/30(20060101);G09F9/35(20060101)

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2023.08.25#授权;2021.01.26#实质审查的生效;2021.01.08#公开

摘要:本发明提供了一种缓冲结构及其制作方法、复合缓冲结构和显示装置,弹性主体层的至少一侧具有多个凹槽,且密封外壳至少密封弹性主体层具有凹槽的表面,使得凹槽为密封的凹槽,因此,当缓冲结构受到冲击时,不仅弹性主体层会通过弹性形变对冲击力进行缓冲,而且密封的凹槽以及密封在凹槽内的气体会进一步对冲击力进行缓冲,从而使得缓冲结构的抗冲击能力较强,进而使得缓冲结构能够满足多种应用场景下的抗冲击需求。

主权项:1.一种缓冲结构,其特征在于,包括弹性主体层和密封外壳;所述弹性主体层的至少一侧具有多个凹槽;所述密封外壳至少密封所述弹性主体层具有所述凹槽的表面,以使所述凹槽为密封的凹槽。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 武汉天马微电子有限公司 一种缓冲结构及其制作方法、复合缓冲结构和显示装置

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