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【发明公布】多射束描绘方法以及多射束描绘装置_纽富来科技股份有限公司_202010661012.4 

申请/专利权人:纽富来科技股份有限公司

申请日:2020-07-10

公开(公告)日:2021-01-12

公开(公告)号:CN112213926A

主分类号:G03F7/20(20060101)

分类号:G03F7/20(20060101)

优先权:["20190710 JP 2019-128585"]

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2021.01.29#实质审查的生效;2021.01.12#公开

摘要:本发明涉及多射束描绘方法及多射束描绘装置。本发明的一个方式的多射束描绘方法,进行基于射束偏转的第k次k为自然数的追踪控制,以使多射束的各射束统一并追随于工作台的移动,在进行第k次的追踪控制的同时,在各射束分别对应的以射束间间距尺寸包围的矩形的照射区域内,一边进行同时移位,一边进行多次束发射,在第k次的跟踪控制期间经过后,使跟踪位置返回到对第k次的跟踪控制开始的跟踪开始位置进一步附加了射束间间距尺寸的整数倍的偏移后的位置,作为第k+1次的跟踪控制的开始位置。

主权项:1.一种多射束描绘方法,其特征在于,进行基于射束偏转的第k次的跟踪控制,以使多射束的各射束统一并追随于工作台的移动,其中,k为自然数,在进行所述第k次的跟踪控制的同时,在各射束分别对应的以射束间间距尺寸包围的矩形的照射区域内,一边进行同时移位,一边进行多次射束发射,在所述第k次的跟踪控制期间经过后,使跟踪位置返回到对所述第k次的跟踪控制开始的跟踪开始位置进一步附加了所述射束间间距尺寸的整数倍的偏移后的位置,作为第k+1次的跟踪控制的开始位置。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 纽富来科技股份有限公司 多射束描绘方法以及多射束描绘装置

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