申请/专利权人:三菱瓦斯化学株式会社
申请日:2019-05-27
公开(公告)日:2021-01-12
公开(公告)号:CN112218844A
主分类号:C07C39/15(20060101)
分类号:C07C39/15(20060101);C07C39/367(20060101);C07C49/83(20060101);C08G8/04(20060101);G03F7/11(20060101);G03F7/20(20060101);G03F7/26(20060101)
优先权:["20180528 JP 2018-101599"]
专利状态码:在审-实质审查的生效
法律状态:2021.03.26#实质审查的生效;2021.01.12#公开
摘要:本发明的目的在于,提供:对光刻用膜形成材料等有用的新型化合物等。前述目的可以通过下述式1所示的化合物而达成。
主权项:1.一种化合物,其由下述式1表示, 式1中,A为碳数1~12的基团,R1为碳数1~30的2n价的基团,R2~R5各自独立地为碳数1~10的直链状、支链状或环状的烷基、碳数1~10的烷氧基、碳数6~10的芳基、碳数2~10的烯基、碳数2~10的炔基、巯基或羟基,R4中的至少一者和或R5中的至少一者为羟基和或巯基,m2和m3各自独立地为0~8的整数,m4和m5各自独立地为0~9的整数,n为1~4的整数,p2~p5各自独立地为0~2的整数。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 三菱瓦斯化学株式会社 化合物、树脂、组合物、抗蚀图案形成方法、电路图案形成方法和树脂的纯化方法
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