申请/专利权人:苏州航菱微精密组件有限公司
申请日:2020-10-22
公开(公告)日:2021-01-12
公开(公告)号:CN112213927A
主分类号:G03F7/20(20060101)
分类号:G03F7/20(20060101);B08B3/08(20060101);B08B3/12(20060101);B24B1/00(20060101)
优先权:
专利状态码:有效-授权
法律状态:2022.09.20#授权;2021.01.29#实质审查的生效;2021.01.12#公开
摘要:本发明公开了一种光刻机基底架模组的清洗方法,包括以下步骤:S101、除锈,在清洗槽内加入除锈剂,利用超声波对光刻机基底架模组进行除锈清洗;S102、初次利用清水将光刻机基底架模组表面清洗;S103、抛光,将光刻机基底架模组放在抛光机上进行抛光;S104、再次利用清水将光刻机基底架模组表面清洗;利用除锈剂溶液浸泡光刻机基底架模组,可除去表面的水垢和绣渍,利用抛光机可以将光刻机基底架模组的表面抛光,配合抛光剂的使用,利用二氧化硅抛光粉等成分的使用,加强了抛光效果,通过超声波清洗方法,配合清洗液的使用,可以高效去除光刻机基底架模组表面从微米到亚微米各种尺度的颗粒,可以有效的防止二氧化硅析出。
主权项:1.一种光刻机基底架模组的清洗方法,其特征在于:包括以下步骤:S101、除锈,在清洗槽内加入除锈剂,利用超声波对光刻机基底架模组进行除锈清洗;S102、初次利用清水将光刻机基底架模组表面清洗;S103、抛光,将光刻机基底架模组放在抛光机上进行抛光;S104、再次利用清水将光刻机基底架模组表面清洗;S105、在清洗液中浸泡20-30min,利用清水冲洗;S106、利用乙醇超声清洗10-20min;S107、放入烘干室烘干10-20min,完成光刻机基底架模组的清洗。
全文数据:
权利要求:
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