申请/专利权人：优志旺电机株式会社

申请日：2017-01-24

公开（公告）日：2021-01-12

公开（公告）号：CN107024836B

主分类号：G03F7/20(20060101)

分类号：G03F7/20(20060101)

优先权：["20160202 JP 2016-018399"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2021.01.12#授权;2018.10.23#实质审查的生效;2017.08.08#公开

摘要：一种辊到辊两面曝光装置，提供在辊到辊方式且进行两面曝光的曝光装置中，能够进行掩膜的清洗的实用的构成。通过搬运系统1将辊状的片状基板S拉出并在曝光区域中通过地搬运，通过设置在曝光区域的两侧的一对光源2、光学系统3以及掩膜41、42，按照掩膜41、42的图案照射光对片状基板S进行曝光。在曝光的间隙，升降机构51、52是各掩膜41、42升降，成为各掩膜41、42与表面具有粘贴层的一对清洗辊61、62接触的状态，各清洗辊61、62在各掩膜41、42上转动并且通过辊移动机构63一体地移动，由此对各掩膜41、42进行清洗。

主权项：1.一种辊到辊两面曝光装置，将辊状的片状基板拉出并向该片状基板的两面照射规定图案的光而进行曝光，其特征在于，具备：搬运系统，将辊状的片状基板拉出并在曝光区域中通过地进行搬运；一对掩膜，隔着曝光区域配置；以及掩膜清洗机构，对一对掩膜进行清洗，掩膜清洗机构具备：一对清洗辊，表面具有粘贴层；以及辊移动机构，使各清洗辊在各掩膜上边转动边移动，由此从各掩膜除去异物，辊移动机构是在之间存在片状基板的状态下使各清洗辊从各掩膜的一侧向另一侧同时期地移动的机构，使一方的清洗辊移动的辊移动机构，相对于曝光区域中的片状基板，配置于与该一方的清洗辊进行清洗的一方的掩膜相同的一侧，在该辊移动机构中保持该一方的清洗辊的部分不贯穿曝光区域中的片状基板所位于的平面。

全文数据：辊到辊两面曝光装置技术领域[0001]本发明涉及用于挠性印刷基板等的制造的辊到辊两面曝光装置。背景技术[0002]将规定图案的光向对象物照射而进行曝光的曝光装置，作为光刻的核心的要素技术在各种用途中使用。其中，关于对挠性印刷基板那样的柔软的基板以下，称为片状基板）进行曝光的曝光装置，已知有通过辊到辊在对片状基板进行搬运的同时进行曝光的装置。在这种装置中，存在对片状基板的两面同时进行曝光的类型的装置，其一个例子为对两面进行电路形成的挠性印刷基板用的曝光装置。[0003]进行两面曝光的辊到辊的曝光装置构成为，对于某个设定的区域从两侧照射规定图案的光。然后，将辊状的片状基板拉出而使其在该区域中逐次停止，并在停止中从两侧进行曝光。当对片状基板的厚度量进行考虑时，某个设定的区域成为具有平行的二个平面曝光面的区域以下，称为曝光区域）。[0004]专利文献1:日本特开2007-25436号公报[0005]专利文献2:日本特开2015-49356号公报[0006]在上述那样的曝光装置中，为了进行没有形状缺陷的优良品质的图案转印，需要定期地清洗掩膜。当灰尘、尘埃等异物附着到掩膜上时，成为所照射的光的图案的缺陷，容易成为最终的制品不良的原因。在曝光装置中，例如片状基板的边缘的少许的毛边剥离、或者片状基板上所涂敷的抗蚀剂的一部分剥离而成为异物，并可能附着到掩膜上。因此，需要定期地清洗掩膜。[0007]在专利文献1、专利文献2中，公开了在这样的曝光装置中进行掩膜的清洗的技术。其中，在专利文献1中，公开了在单张处理式的曝光装置中通过粘贴辊对掩膜进行除尘的技术。此外，在专利文献2中，公开了在辊到辊方式的曝光装置中通过清洗辊对掩膜进行除尘的技术。[0008]这些专利文献所公开的掩膜的除尘技术，均是单面方式的曝光装置中的技术。在两面曝光装置的情况下，由于相对于片状基板在两侧配置有掩膜，因此需要对其双方进行清洗，但是这些专利文献为单面曝光方式的文献，因此即使参照这些文献也不能够想到实用的构造。[0009]例如，在专利文献1中，清洗辊安装于对片状基板进行搬出的搬出手，与片状基板的搬出动作同步地移动而进行掩膜的除尘。然而，在辊到辊的装置中，由于不存在单张处理式的装置那样的基板的搬入搬出动作、用于此的机构，因此不能作为参考。此外，在专利文献2中，说明了在隔着片状基板而与掩膜相反侧设置有驱动机构，通过该驱动机构使清洗辊移动，由此进行掩膜的除尘，但是在两面曝光装置的情况下，在相反侧也同样配置有掩膜，难以配置这样的机构。发明内容[0010]本发明是鉴于这样的现有技术的状况而进行的，其目的在于提供在辊到辊方式且进行两面曝光的曝光装置中，能够进行掩膜的清洗的实用的构成。[0011]为了解决上述课题，本申请的技术方案1记载的发明具有的构成为，一种辊到辊两面曝光装置，将辊状的片状基板拉出并向该片状基板的两面照射规定图案的光而进行曝光，其具备：[0012]搬运系统，将辊状的片状基板拉出并在曝光区域中通过地进行搬运；[0013]一对掩膜，隔着曝光区域配置;以及[0014]掩膜清洗机构，对一对掩膜进行清洗，[0015]掩膜清洗机构具备：[0016]—•对清洗親，表面具有粘贴层；以及[0017]辊移动机构，使各清洗辊在各掩膜上边转动边移动，由此从各掩膜除去异物，[0018]辊移动机构是在之间存在片状基板的状态下使各清洗辊从各掩膜的一侧向另一侧同时期地移动的机构。[0019]此外，为了解决上述课题，技术方案2记载的发明具有的构成为，在上述技术方案1的构成中，上述辊移动机构是使上述各清洗辊一体地移动的机构。[0020]此外，为了解决上述课题，技术方案3记载的发明具有的构成为，在上述技术方案1或者2的构成中，上述各清洗辊具备在与上述各掩膜接触时使弹性作用而提高向掩膜的按压力的弹性体。[0021]此外，为了解决上述课题，技术方案4记载的发明具有的构成为，在上述技术方案1或者2的构成中，设置有掩膜移动机构，该掩膜移动机构以使上述各掩膜朝向上述片状基板移动并且使上述各掩膜从上述片状基板远离的方式移动，[0022]上述各清洗辊位于比上述各掩膜更接近上述片状基板的一侧，[0023]掩膜移动机构是能够使上述各掩膜朝向上述片状基板移动而使其与上述各清洗辊接触的机构。[0024]此外，为了解决上述课题，技术方案5记载的发明具有的构成为，在上述技术方案4的构成中，上述各清洗辊具备弹性体，[0025]上述掩膜移动机构是在使上述各掩膜与上述各清洗辊接触时，能够使上述各掩膜位于将弹性体压缩而提高上述各清洗辊向上述各掩膜的按压力的位置的机构，且是能够对上述各掩膜的位置进行调节而对弹性体的压缩量进行调节的机构。[0026]此外，为了解决上述课题，技术方案6记载的发明具有的构成为，在上述技术方案1或者2的构成中，上述各清洗辊位于比上述各掩膜更接近上述片状基板的一侧，[0027]上述一对清洗親通过框架相互连结，[0028]上述掩膜移动机构是如下的机构:通过使上述一对掩膜的一方向接近上述片状基板的方向移动，而使其与上述一对清洗辊的一方接触，并且，经由该一方的掩膜以及一方的清洗辊使另一方的清洗辊移动，由此能够使另一方的清洗辊与另一方的掩膜接触。[0029]此外，为了解决上述课题，技术方案7记载的发明具有的构成为，在上述技术方案6的构成中，上述一对清洗辊经由弹性体连结，[0030]上述掩膜移动机构是在通过经由上述一方的掩膜以及上述一方的清洗辊使上述另一方的清洗辊移动、由此使另一方的清洗辊与上述另一方的掩膜接触时，能够使上述一方的掩膜位于将弹性体压缩而提高上述各清洗辊向上述各掩膜的按压力的位置的机构，且是能够对上述一方的掩膜的位置进行调节而对弹性体的压缩量进行调节的机构。[0031]此外，为了解决上述课题，技术方案8记载的发明具有的构成为，在上述技术方案4至7任一项的构成中，上述掩膜移动机构是使上述各掩膜与上述片状基板接触或者具有规定间隙地对置的机构。[0032]此外，为了解决上述课题，技术方案9记载的发明具有的构成为，在上述技术方案1至8任一项的构成中，设置有能够与上述一对清洗辊接触的一对转移辊，[0033]各转移辊在表面上具有与上述各清洗親的粘贴层相比粘贴力更高的粘贴层。[0034]此外，为了解决上述课题，技术方案10记载的发明具有的构成为，在上述技术方案1至9任一项的构成中，设置有在上述各清洗辊与上述各掩膜接触之前对上述各掩膜的表面进行除电的除电器。[0035]此外，为了解决上述课题，技术方案11记载的发明具有的构成为，在上述技术方案10的构成中，上述除电器为向上述各掩膜的表面供给离子而进行除电的电离器，[0036]电离器相对于上述各清洗辊，配置于上述辊移动机构的移动的方向的前方，[0037]上述辊移动机构是使电离器与上述各清洗辊一体地移动的机构。[0038]发明的效果[0039]如以下说明的那样，根据本申请的技术方案1记载的发明，在之间存在片状基板的状态下、一对清洗親在一对掩膜上边转动边同时期地移动，由此进行清洗，因此提供能够不阻碍生产率地进行清洗的实用的构成。[0040]此外，根据技术方案2记载的发明，在上述效果的基础上，一对清洗辊一体地移动，因此用于移动的机构被简化。[0041]此外，根据技术方案3记载的发明，在上述效果的基础上，各清洗辊向各掩膜的按压力被提高，因此清洗的效果进一步提高。[0042]此外，根据技术方案4记载的发明，在上述效果的基础上，掩膜移动机构兼用于使各清洗辊与各掩膜接触，因此通过这一点使机构简化。[0043]此外，根据技术方案5记载的发明，在上述效果的基础上，通过掩膜移动机构对弹性体的压缩量进行调节，因此清洗变得不充分、或者损伤掩膜的可能性消失。[0044]此外，根据技术方案6记载的发明，在上述效果的基础上，掩膜移动机构兼用于使各清洗辊与各掩膜接触，因此通过这一点使机构简化。[0045]此外，根据技术方案7记载的发明，在上述效果的基础上，通过掩膜移动机构对弹性体的压缩量进行调节，因此清洗变得不充分、或者损伤掩膜的可能性消失。此外，弹性体为一个即可，因此通过这一点使机构简化。[0046]此外，根据技术方案8记载的发明，能够在进行接触方式或者邻近方式的曝光的同时，得到上述各效果。[0047]此外，根据技术方案9记载的发明，在上述效果的基础上，由于设置有转移辊，因此能够降低各清洗辊的维护频度。_[0048]此外，根据技术方案10记载的发明，在上述效果的基础上，由于设置有在清洗之前对各掩膜的表面进行除电的除电器，因此能够进一步提高清洗的效果。[0049]此外，根据技术方案11记载的发明，在上述效果的基础上，辊移动机构兼用于除电器即电离器的移动，因此通过这一点使机构简化。附图说明[0050]图1是第一实施方式的辊到辊两面曝光装置的主视截面概略图。[0051]图2是第一实施方式的掩膜清洗机构的立体概略图。[0052]图3是表示第一实施方式的辊到辊两面曝光装置的动作的主视截面概略图。[0053]图4是表示第二实施方式的辊到辊两面曝光装置的主要部分的立体概略图。[0054]图5是表示第二实施方式的辊到辊两面曝光装置的动作的主视截面概略图。[0055]图6是第三实施方式的辊到辊两面曝光装置的主要部分的立体概略图。[0056]符号的说明[0057]1搬运系统[0058]2光源[0059]3光学系统[0060]41上侧掩膜[0061]42下侧掩膜[0062]51上侧升降机构[0063]52下侧升降机构[0064]6掩膜清洗机构[0065]61上侧清洗辊[0066]62下侧清洗辊[0067]63辊移动机构[0068]64可动框架[0069]7作为弹性体的螺旋弹簧[0070]81上侧除电器[0071]82下侧除电器具体实施方式[0072]接下来，对用于实施本发明的方式（以下，称为实施方式进行说明。[0073]图1是第一实施方式的辊到辊两面曝光装置的主视截面概略图。图1所示的装置具备:搬运系统1，将辊状的片状基板s拉出而搬运;光源2;光学系统3,对所拉出的片状基板S中位于曝光区域的部分，照射来自光源2的光而进行曝光；以及掩膜41、42,配置在光学系统3与曝光区域之间。[0074]搬运系统1由将卷绕为辊状的片状基板S拉出的压紧辊11、卷绕被曝光后的片状基板S的卷绕辊12等构成。装置具备未图示的控制部，搬运系统1由控制部控制。[0075]曝光区域是具有水平的曝光面的区域，片状基板S以水平的姿态向曝光区域搬运。在搬运时片状基板S所通过的面（以下，称为搬运面为水平，光学系统3的光轴相对于搬运面垂直。[0076]搬运系统1对片状基板S的搬运是间歇性的，重复进行将片状基板S输送规定的行程而使其停止的动作逐次搬运动作）。规定的行程是与曝光区域的大小相对应的行程。曝光在片状基板S的停止中进行，照射曝光区域的大小的图案的光。由此，逐次搬运动作的行程以下，称为搬运行程与搬运方向上的曝光区域的长度大致相当。[0077]本实施方式的装置进行两面曝光，因此光源2、光学系统3以及掩膜41、42隔着曝光区域而在两侧在本实施方式中为上侧和下侧各配置有一组。以下，为了便于说明，将一对掩膜41、42称为上侧掩膜41、下侧掩膜42。[0078]光源2以及光学系统3能够从各种光源以及光学系统中任意地选择，但是例如能够采用如下构成:将短弧型的紫外线灯作为光源2,在通过积分透镜成为均匀的强度分布的光束之后，通过准直透镜成为平行光而向掩膜41、42照射。另外，各光学系统3包含未图示的快门，各快门由未图示的控制部控制。[0079]此外，本实施方式的装置进行所谓的接触曝光。由此，设置有掩膜移动机构51、52，该掩膜移动机构51、52使掩膜41、42进行用于与片状基板S紧贴或者从片状基板S离开的移动。在本实施方式中，曝光区域中的片状基板S为水平的姿态，因此掩膜移动机构51、52成为使掩膜41、42沿上下方向移动的机构。以下，将使上侧掩膜41升降的机构51称为上侧升降机构，将使下侧掩膜42升降的机构52称为下侧升降机构。[0080]各掩膜41、42为水平的姿态的板状。在各掩膜41、42的背后设置有掩膜台座411、421。在各掩膜台座411、“1的前面搭载各掩膜41、42。各升降机构51、52成为通过使各掩膜台座411、421升降来使各掩膜41、42与片状基板S紧贴或者从片状基板S离开的机构。[0081]具体地说，各升降机构51、52为如下机构:使各掩膜41、42朝向片状基板S移动而与片状基板S紧贴，并且在曝光结束后的片状基板S的搬运时使各掩膜41、42向从片状基板S远离的方向移动。各升降机构51、52能够采用任意的直动机构，但是在本实施方式中，为了增大各掩膜41、42的停止位置的自由度，而采用伺服马达与滚珠丝杠的组合。在图1中省略了详细情况，但是各升降机构51、52成为如下机构:在左右具备上下的驱动轴，使各掩膜台座41U421沿着上下方向的线性引导器升降。[0082]另外，为了便于说明，将垂直方向设为Z方向，将片状基板S的搬运方向设为X方向，将与X方向垂直的水平方向设为Y方向。各掩膜41、42为将XY方向作为各边的方形的板状。[0083]这样的实施方式的辊到辊两面曝光装置，具备将附着于各掩膜41、42的异物除去的掩膜清洗机构6。以下，参照图1以及图2对掩膜清洗机构6进行说明。图2是第一实施方式的掩膜清洗机构的立体概略图。[0084]掩膜清洗机构6具有同时清洗一对掩膜41、42的实用的构成。具体地说，掩膜清洗机构6具备:表面具有粘贴层的一对清洗辊61、62;以及通过在与各掩膜41、42抵接的状态下使各清洗辊61、62移动来进行清洗的辊移动机构63。[0085]在各清洗辊61、62中，表面的粘贴层具有足够的粘贴力，以便能够通过粘贴力将附着于掩膜41、42的异物从掩膜41、42除去。如图2所示那样，各清洗辊61、62为圆筒状，通过插入圆柱状的芯棒省略符号来由芯棒保持。各清洗辊61、62沿着Y方向配置。[0086]辊移动机构63包括:保持了一对清洗辊61、62的框架64;安装于框架64的一对滑块65;与X方向相互平行地延伸的一对线性引导器66;以及使各滑块65沿着各线性引导器66移动的直线驱动源67等。框架64通过直线驱动源67而可动，因此在以下称为可动框架。[0087]可动框架64具有对各清洗辊61、62进行支撑的一对支柱部（以下，称为除尘支柱部641。各除尘支柱部641经由轴承省略符号对各清洗辊61、62的芯棒的两端进行支撑。由此，各清洗辊61、62能够围绕沿Y方向延伸的中心轴从动旋转。如图2所示那样，由除尘支柱部641保持的一对清洗辊61、62在Z方向上分离，在其之间设定有片状基板S的搬运面。由此，在装置的动作状态下片状基板S位于其之间。[0088]作为直线驱动源67,使用伺服马达与滚珠丝杠的组合或者线性马达等。基于直线驱动源67的滑块65的移动行程，为比X方向的掩膜41、42的长度稍微长的程度。[0089]此外，掩膜清洗机构6具备转移辊68。设置转移辊68的目的在于，使附着于清洗辊61、62的异物转移，降低清洗辊61、62的维护频度。[0090]与清洗辊61、62同样，各转移辊68为在表面具有粘贴层的粘贴辊。各转移辊68与家庭用的垃圾去取用粘贴辊同样，为卷绕有粘性胶带粘贴纸）的构造，在异物向转移辊68的附着量变多的情况下，通过将表面的一层粘性胶带剥去，由此使附着力再生。但是，与清洗辊61、62相比，各转移辊68的粘贴力为相当高的程度。[0091]如图2所不那样，各转移辊68由与支撑清洗親61、62的可动框架64不同的框架（以下，称为固定框架681保持。固定框架681具有一对支柱部（以下，称为转移支柱部682。各转移辊68也具有芯棒，芯棒的两端经由轴承省略符号支撑于各转移支柱部682。[0092]各转移辊68设置有旋转驱动源683,且围绕中心轴进行旋转。如图2所示那样，上侧的转移辊68被支撑的高度，为与上侧的清洗辊61、62几乎相同的高度，下侧的转移辊68被支撑的高度，为与下侧的清洗辊61、62几乎相同的高度。由此，通过各清洗辊61、62移动，由此各转移辊68能够与各清洗辊61、62接触。[0093]参照图3对这样的第一实施方式的辊到辊两面曝光装置的动作进行说明。图3是表示第一实施方式的辊到辊两面曝光装置的动作的主视截面概略图。[0094]未图示的控制部向搬运系统1发送控制信号，将片状基板S搬运搬运行程的距离而使其停止。然后，通过各光源2以及各光学系统3进行曝光。即，控制部使各升降机构51、52动作，并如图3⑴所示那样，使各掩膜41、42与片状基板S紧贴。在该状态下，控制部将各光学系统3内的快门打开，来自各光源2的光L借助各光学系统3而通过各掩膜41、42并向片状基板S的两面照射，由此将两面同时进行曝光。另外，在曝光时，各清洗辊61、62位于待机位置。待机位置为，相对于各掩膜41、42被设定于X方向的一侧例如如图3所示那样为左侧）。[0095]当规定时间的曝光结束时，控制部使各升降机构51、52动作，并如图32所示那样，使各掩膜41、42从片状基板S分离。[0096]接下来，控制部通过掩膜清洗机构6进行各掩膜41、42的清洗动作。控制部为，首先，使直线驱动源67动作，使可动框架64沿X方向移动。此时的移动距离，为一对清洗辊61、62在各掩膜41、42的前方通过、并到达清洗开始位置所需要的移动距离。在本实施方式中，对于各掩膜41、42中应该进行曝光并形成图案的区域（以下，称为图案区域，在图1中用R表示进行清洗，清洗开始位置是面向另一侧从各掩膜41、42观察为与待机位置相反侧的图案区域R的端部的稍微外侧的位置。如图33所示那样，一对清洗辊61、62当到达该清洗开始位置时、则停止。[0097]接下来，控制部向各升降机构51、52发送控制信号，使各掩膜41、42向相互接近的方向移动。此时的移动距离，对于上侧升降机构51来说是上侧掩膜41的下面与上侧清洗辊61接触的距离，对于下侧升降机构52来说是下侧掩膜42的上面与下侧清洗辊e2接触的距离。[0098]通过移动，如图3⑷所示那样，成为各掩膜41、42与各清洗辊61、62接触的状态。在该状态下，控制部向辊移动机构63的直线驱动源67发送控制信号，使可动框架64向相反方向直线移动规定的行程。规定的行程是指，与比各掩膜41、42中的图案区域R的X方向的长度稍微长的距离相当的行程。结果，如图35所示那样，各清洗辊61、62到达各掩膜41、42的图案区域R的一侧的端部的稍微外侧。在该直线移动时，各清洗辊61、62与各掩膜41、42接触并且与可动框架64—体地直线移动。此时，通过各清洗辊61、62与各掩膜41、42之间的摩擦力，各清洗辊61、62从动旋转。在掩膜41、42上附着有异物的情况下，从动旋转的各清洗辊61、62通过粘贴力使其附着于自身，而从掩膜41、42除去。[00"]另外，在从图3⑵所示的状态到成为图3⑸所示的状态为止的期间的时间段中，控制部向搬运系统1发送控制信号，与各清洗辊61、62的一体移动并行地，进行按照搬运行程的片状基板S的搬运。结果，成为片状基板S中接下来应该进行图案转印的区域位于曝光区域的状态。另外，逐次搬运所需要的时间，通常比清洗所需要的时间短，在图35的状态下逐次搬运结束。[0100]从图3⑸的状态起，控制部向上侧升降机构51发送控制信号而使上侧掩膜41上升，向下侧升降机构52发送控制信号而使下侧掩膜42下降。结果，如图3⑹所示那样，各掩膜41、42返回到最初的待机位置的高度。[0101]然后，控制部使可动框架64向固定框架681侧进一步直线移动。如图36所示那样，此时移动距离为成为各清洗辊61、62与各转移辊68接触的状态的距离。在该状态下，控制部使各转移辊68的旋转驱动源683动作，使各转移辊68旋转。在各转移辊68与各清洗辊61、62之间存在较大的摩擦力，因此通过各转移辊68的旋转，而各清洗辊61、62从动旋转。此时，转移辊68的表面的粘贴层的粘贴力比清洗辊61、62的表面的粘贴层的粘贴力更高，因此附着于清洗辊61、62的异物向转移辊68转移而附着。[0102]然后，控制部使可动框架64向各清洗辊61、62从各转移辊68离开的方向移动，使可动框架64返回最初的待机位置。另一方面，在各清洗辊61、62对各掩膜41、42的清洗结束之后，控制部使掩膜41、42与片状基板S紧贴，向各光学系统3的快门发送控制信号而将快门打开，使其进行下一次的曝光动作。由此，在下一次曝光动作的过程中，各转移辊68从各清洗辊61、62转移异物。在下一次曝光动作结束时之前，转移动作结束，可动框架64返回最初的位置。然后，图32〜图36所示的动作被同样地重复。[0103]根据这样的构成以及动作的实施方式，在辊到辊方式的两面曝光装置中，提供各掩膜41、42被保持为清洗的状态的实用的构成。即，在之间存在片状基板s的状态下各清洗辊61、62与各掩膜41、42抵接而转动，将异物除去。当直接采用专利文献丨、专利文献2的构造时，片状基板S成为妨碍，因此必须在暂时将片状基板S卷绕之后进行清洗。在该构成中，到清洗的开始之前非常花费时间劳力，并且清洗的频度不得不变得非常低。当为了进行优良品质的处理而提高清洗的频度时，会较大地阻碍生产率。另一方面，根据实施方式的构成，在片状基板S位于搬运面上的状态下对各掩膜41、42进行清洗，因此能够在各曝光的间隔逐次搬运时）中进行清洗，不存在上述那样的问题。[0104]此外，当是在对一方的掩膜41进行了清洗之后对另一方的清洗42进行清洗的构成时，清洗所需要的整体的时间变长，对生产率赋予的影响变得不能够忽略。然而，在实施方式的装置中，一对清洗辊61、62同时期地移动而进行清洗，因此不存在这样的问题。[0105]另外，在本实施方式中，通过使一对清洗辊61、62—体地移动来实现同时期的清洗，但这不一定是必须的。即使一对清洗辊61、62分别移动，但是只要其移动同时期地进行，则能够避免阻碍生产率的问题。但是，如根据上述说明可知的那样，在一体地移动的情况下，能够通过一个机构使双方的清洗辊61、62移动，因此存在机构被简化的优点。[0106]此外，在上述说明中，说明了在对于片状基板S的每次曝光的间隔中进行清洗，但是能够根据异物对于各掩膜41、42的附着状况来调节清洗的频度。有时每进行数次〜数十次的曝光而进行1次清洗。[0107]另外，作为掩膜移动机构的升降机构被兼用于使各清洗辊61、62相对于各掩膜41、42接触。这一点竺对于使装置在机构上简化具有贡献。为了使各清洗辊61、62与各掩膜41、42接触，也能够采用与升降机构不同的机构，但是在该情况下，机构变得复杂，成本也上升。在实施方式中，不存在这样的问题。[0108]并且，在本实施方式中，对于各清洗辊61、62设置有转移辊68，附着于各清洗辊61、62的异物被向转移辊68转移，因此各清洗辊61、62的维护周期变长。各清洗辊61、62为，在附着较多的异物而异物的除去能力降低的情况下，被取下并用水进行清洗而使能力恢复。在本实施方式中，各清洗辊ei、62定期地与转移辊68接触而进行异物的转移。在异物向转移辊68的附着量变多的情况下，通过将表面的一层粘性胶带剥去的维护即可。因此，各清洗辊61、62的水清洗的频度较低，对生产率产生的影响变得非常小。[0109]接下来，对第二实施方式的辊到辊两面曝光装置进行说明。[0110]图4是表示第二实施方式的辊到辊两面曝光装置的主要部分的立体概略图。该第二实施方式的装置与第一实施方式的不同点在于，各清洗辊61、62的安装构造以及用于相对于各掩膜41、42接触的构造。具体地说明，在第二实施方式中，一对清洗辊ei、62的芯棒的端部也由除尘支柱部641支撑。除尘支柱部641与第一实施方式不同，在之间夹着作为弹性体的螺旋弹簧7的状态下对一对清洗辊61、62进行支撑。即，一对清洗辊e1、62经由螺旋弹簧7连结^另外，在图4中，省略各转移辊、对其进行支撑的固定框架等的图示。[0112]在各除尘支柱部641，上下地设置有一对托架（以下，称为上侧托架、下侧托架71、72,以将一对托架71、72相连的状态设置有螺旋弹簧7。如图5所示那样，一对托架71、72以从除尘支柱部641向X方向突出的状态设置，对沿Y方向延伸的芯棒的两端进行紧固而保持。[0113]此外，在各除尘支柱部641，一对托架71、72突出的一侧的侧面称为导轨。各托架71、72能够沿着该导轨在上下方向上滑动。另外，各除尘支柱部Ml的构造为，在下端部具有承接板省略符号），在待机状态下，下侧托架72承载于承接板上，并通过螺旋弹簧7将上侧托架71与其连结。虽然由于上侧托架71以及所支撑的上侧清洗辊61的重量而螺旋弹簧7处于被稍微压缩的状态，但是大致成为自由长度的长度。[0114]另外，在各除尘支柱部Ml的上端设置有限位器乃，以便下侧掩膜42不会限度以上地上升。[0115]关于上述以外的构造，第二实施方式的装置与第一实施方式基本上相同。一对清洗辊61、62能够与可动框架64—体地移动，并且在固定框架681上设置有一对转移辊68。[0116]参照图5对这样的第二实施方式的辊到辊两面曝光装置的动作进行说明。图5是表示第二实施方式的辊到辊两面曝光装置的动作的主视截面概略图。[0117]如图51所示那样，在第二实施方式中，使各掩膜41、42与片状基板S紧贴，借助各光学系统3使来自各光源2的光L通过各掩膜41、42照射而进行两面曝光。在该一次的曝光之后，如图52所示那样，各掩膜41、42向从片状基板S分离的待机位置返回。然后，进行掩膜清洗的准备操作。[0118]即，如图52所示那样，辊移动机构63使可动框架64向X方向移动而使一对清洗辊61、62位于掩膜41、42的相反侧。在沿X方向观察的情况下，该位置是各掩膜41、42中应该进行清洗的区域的端部的位置。[0119]在该状态下，控制部向下侧升降机构52发送控制信号，使下侧掩膜42上升规定距离。此时，首先，如图5⑶所示那样，下侧掩膜42与下侧清洗辊62接触。下侧升降机构52使下侧掩膜42进一步上升。[0120]此时，下侧掩膜42己经与下侧清洗辊62接触，下侧清洗辊62通过可动框架64与上侧清洗辊61连结，因此下侧升降机构52成为使承载于下侧掩膜42的下侧清洗辊62以及上侧清洗辊61—体地上升的状态。另外，此时，下侧托架72从承接板离开而上升。[0121]然后，当如图5⑷所示那样上侧清洗辊61与上侧掩膜41抵接、且之后稍微上升时，下侧升降机构52停止下侧掩膜42的上升。上侧掩膜41的位置通过上侧升降机构51固定，因此上侧清洗辊61与上侧掩膜41抵接之后的上升，会反抗螺旋弹簧7的弹性。即，上侧清洗辊61与上侧掩膜41碰撞而将螺旋弹簧7稍微压缩，并且下侧升降机构52使下侧掩膜42稍微上升。[0122]在图54所示的状态下，成为通过螺旋弹簧7的弹性而下侧清洗辊62被按压于下侧掩膜42、并且上侧清洗辊61被按压于上侧掩膜41的状态。在该状态下，控制部向辊移动机构63发送控制信号，使可动框架64沿X方向向相反方向移动规定距离。此时的移动距离，为各清洗辊61、62经过各掩膜41、42的图案区域1?所需要的距离。如图55所示那样，当该距离的移动结束时，控制部向辊移动机构63发送控制信号而使移动停止。在到此为止的移动时，各清洗辊61、62在各掩膜41、42上从动旋转，将附着于各掩膜41、42的异物除去。[0123]接下来，控制部向下侧升降机构52发送控制信号，如图56所示那样，使下侧掩膜42下降到最初的高度。结果，上侧清洗辊61从上侧掩膜41离开，下侧清洗辊62从下侧掩膜42离开。此外，下侧托架72成为承载于承接板的状态，螺旋弹簧7成为大致自由长度。[0124]然后，与第一实施方式同样，控制部使可动框架64进一步沿X方向移动，并如图56所示那样使各清洗辊61、62与各转移辊68接触。然后，使各转移辊68的旋转驱动源683动作，使各清洗辊61、62上的异物向各转移辊68转移。然后，控制部使可动框架64向最初的待机位置返回。然后，当接下来的一次的曝光结束时，重复同样的清洗动作。另外，与第一实施方式同样，与每次曝光的间隔的片状基板S的搬运在时间上重叠地进行上述清洗动作。[0125]根据这样的构成以及动作的第二实施方式的辊到辊两面曝光装置，在清洗时，各清洗辊61、62相对于各掩膜41、42的按压压力通过螺旋弹簧7适当地调节。即，上侧清洗辊61与上侧掩膜41抵接之后的下侧掩膜42的上升，成为反抗螺旋弹簧7的弹性的形式，因此通过对该上升距离适当地调节，由此对螺旋弹簧7的弹力进行调节，对各清洗辊61、62向各掩膜41、42的抵接压力进行调节。因此，不会由于压力不足而不能够充分地进行异物的除去，或者由于过度的压力而损伤掩膜41、42。[0126]在第一实施方式中，通过成为经由弹性体使各清洗辊61、62保持于除尘支柱部641的构造，也能够得到同样的效果。但是，与第一实施方式相比，第二实施方式的构造为，仅通过利用下侧升降机构52使下侧掩膜42上升，就能够使各清洗辊61、62与各掩膜41、42抵接，螺旋弹簧7为一个即可。因此，在构造上变得简洁。[0127]接下来，对第三实施方式进行说明。[0128]图8是第三实施方式的辊到辊两面曝光装置的主要部分的立体概略图。第三实施方式的装置与第一、第二实施方式的不同点在于，清洗装置具备除电器81、82。除电器81、82是在清洗之前将各掩膜41、42表面的静电除去的器具。在本实施方式中，除电器81、82为电离器。电离器为，对掩膜41、42照射离子而使其与电荷中和来进行除电。电离器存在各种方式，能够适当地选定而使用，例如能够采用通过DC或者AC放电将空气离子化而放出的类型。[0129]如图8所示那样，除电器81、82作为整体为棒状的部件，沿着长度方向设置有放出离子的多个喷嘴S3。在本实施方式中，作为上侧掩膜41用而设置有上侧除电器81，作为下侧掩膜42用而设置有下侧除电器82。上侧除电器81以使各喷嘴83朝向上侧的姿态配置，下侧除电器82以使各喷嘴83朝向下侧的姿态设置。一对除电器81、82同样由可动框架64支撑，能够随着可动框架64的移动而一体地移动。另外，一对除电机81、82被设置于搬运面位于其之间的高度。由此，在装置的动作时，成为在一对除电机81、82之间存在片状基板S的状态。[0130]在第三实施方式中，也是在各次曝光的间隔中清洗机构6进行动作。控制部在各清洗辊61、62与各掩膜41、42抵接的状态下使可动框架64沿乂方向移动而使各清洗辊61、62从动旋转，由此进行清洗。此时，控制部使各除电器81、82动作。如根据图8可知的那样，各除电器81、82设置在移动方向前方，因此与各清洗辊61、62相比各除电器81、82先在各掩膜41、42的前方通过。即，在各清洗辊61、62进行清洗之前，通过各除电器81、82对各掩膜41、42的表面进行除电。因此，各清洗棍61、62的清洗效果进一步提高。[0131]更具体地说明，掩膜41、42为石英玻璃那样的玻璃制，且能够带电。由此，有时由电介质形成的异物静电吸附于掩膜41、42,也有时吸附有带电的灰尘那样的异物。在这样的异物的情况下，向掩膜41、42的附着力较强，因此可能存在仅通过使清洗辊61、62转动并不能够除去的情况。在本实施方式中，除电器81、82预先进行掩膜41、42的表面的除电，因此异物的静电吸附被解除、或者成为非常小的吸附力。因此，能够通过清洗辊61、62的粘贴力可靠地除去。[0132]另外，与第一实施方式同样，在第三实施方式中也是，可动框架64在移动（往路移动到各清洗辊61、62面向各掩膜41、42的图案区域R的一方端部的稍微外侧的位置之后，在进行反转后退复路移动时与各掩膜41、42接触而进行清洗。由此，可以在往路移动时使各除电器81、82动作，也可以在往路移动和复路移动的双方使其动作。[0133]无论如何，在第三实施方式中，辊移动机构63被兼用于除尘器81、82的移动，因此通过这一点也能够使机构简化。[0134]在上述各实施方式中，各清洗辊61、62的具有粘贴层的部分的长度（Y方向的长度），与各掩膜41、42的图案区域R的Y方向的长度相当，并仅对图案区域R进行清洗，但是也可以使各清洗辊61、62变长、并使移动距离变长，由此对图案区域R的更大的区域进行清洗。[0135]另外，也可以不仅在复路移动中而且在往路移动中也使各清洗辊61、62与各掩膜41、42接触而进行清洗。但是，当与仅移动到清洗开始位置的情况相比时，在清洗时各清洗辊61、62会以较慢的速度移动。因此，当通过往复的移动进行清洗时，生产间隔时间变长。由此，当考虑生产率时，在不需要的情况下，优选成为仅通过往路或者仅通过复路的清洗。[0136]此外，在本发明中，也可以是在将各掩膜41、42与片状基板S之间抽成真空的紧贴状态下进行曝光的接触方式。在抽成真空的接触方式的情况下，由于容易聚集周围的异物，因此具备各实施方式那样的掩膜清洗机构6的意义较大。另外，对于进行在各掩膜41、42与片状基板S之间形成规定的较小间隙的同时进行曝光的邻近方式的曝光的装置，本发明同样能够实施。[0137]另外，在上述各实施方式中，各清洗辊61、62进行从动旋转，但也可以具备旋转驱动源而进行主动旋转。在该情况下，还能够考虑到如下构成:通过这样的主动旋转的旋转驱动，由此利用与各掩膜41、42之间的摩擦力来进行移动。但是，在进行主动旋转的情况下，容易对各掩膜施加较大的反作用、摩擦力，容易产生各掩膜的损伤等，因此优选为从动旋转。另外，在各清洗辊61、62具备旋转驱动源的情况下，在与各转移辊68的接触中，有时各转移辊68被作为从动辊。

权利要求：1.一种辊到辊两面曝光装置，将辊状的片状基板拉出并向该片状基板的两面照射规定图案的光而进行曝光，其特征在于，具备：搬运系统，将辊状的片状基板拉出并在曝光区域中通过地进行搬运；一对掩膜，隔着曝光区域配置;以及掩膜清洗机构，对一对掩膜进行清洗，掩膜清洗机构具备：一对清洗辊，表面具有粘贴层；以及辊移动机构，使各清洗辊在各掩膜上边转动边移动，由此从各掩膜除去异物，辊移动机构是在之间存在片状基板的状态下使各清洗辊从各掩膜的一侧向另一侧同时期地移动的机构。2.如权利要求1所述的辊到辊两面曝光装置，其特征在于，上述辊移动机构是使上述各清洗辊一体地移动的机构。3.如权利要求1或2所述的辊到辊两面曝光装置，其特征在于，上述各清洗辊具备在与上述各掩膜接触时使弹性作用而提高向掩膜的按压力的弹性体。4.如权利要求1或2所述的辊到辊两面曝光装置，其特征在于，设置有掩膜移动机构，该掩膜移动机构以使上述各掩膜朝向上述片状基板移动并且使上述各掩膜从上述片状基板远离的方式移动，上述各清洗辊位于比上述各掩膜更接近上述片状基板的一侧，掩膜移动机构是能够使上述各掩膜朝向上述片状基板移动而使其与上述各清洗辊接触的机构。5.如权利要求4所述的辊到辊两面曝光装置，其特征在于，上述各清洗辊具备弹性体，上述掩膜移动机构是在使上述各掩膜与上述各清洗辊接触时，能够使上述各掩膜位于将弹性体压缩而提高上述各清洗辊向上述各掩膜的按压力的位置的机构，且是能够对上述各掩膜的位置进行调节而对弹性体的压缩量进行调节的机构。6.如权利要求1或2所述的辊到辊两面曝光装置，其特征在于，上述各清洗辊位于比上述各掩膜更接近上述片状基板的一侧，上述一对清洗辊通过框架相互连结，上述掩膜移动机构是如下的机构:通过使上述一对掩膜的一方向接近上述片状基板的方向移动，而使其与上述一对清洗辊的一方接触，并且，经由该一方的掩膜以及一方的清洗辊使另一方的清洗辊移动，由此能够使另一方的清洗辊与另一方的掩膜接触。7.如权利要求6所述的辊到辊两面曝光装置，其特征在于，上述一对清洗辊经由弹性体连结，上述掩膜移动机构是在通过经由上述一方的掩膜以及上述一方的清洗辊使上述另一方的清洗辊移动、由此使另一方的清洗辊与上述另一方的掩膜接触时，能够使上述一方的掩膜位于将弹性体压缩而提高上述各清洗辊向上述各掩膜的按压力的位置的机构，且是能够对上述一方的掩膜的位置进行调节而对弹性体的压缩量进行调节的机构。8.如权利要求4所述的辊到辊两面曝光装置，其特征在于，上述掩膜移动机构是使上述各掩膜与上述片状基板接触或者具有规定间隙地对置的机构。9.如权利要求1所述的辊到辊两面曝光装置，其特征在于，设置有能够与上述一对清洗辊接触的一对转移辊，各转移辊在表面上具有与上述各清洗辊的粘贴层相比粘贴力更高的粘贴层。10.如权利要求1所述的辊到辊两面曝光装置，其特征在于，设置有在上述各清洗辊与上述各掩膜接触之前对上述各掩膜的表面进行除电的除电器。11.如权利要求10所述的辊到辊两面曝光装置，其特征在于，上述除电器为向上述各掩膜的表面供给离子而进行除电的电离器，电离器相对于上述各清洗辊，配置于上述辊移动机构的移动的方向的前方，上述辊移动机构是使电离器与上述各清洗辊一体地移动的机构。12.如权利要求6所述的辊到辊两面曝光装置，其特征在于，上述掩膜移动机构是使上述各掩膜与上述片状基板接触或者具有规定间隙地对置的机构。

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