申请/专利权人：深圳市原速光电科技有限公司

申请日：2020-04-27

公开（公告）日：2021-01-12

公开（公告）号：CN212335289U

主分类号：C23C16/455(20060101)

分类号：C23C16/455(20060101)

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2021.01.12#授权

摘要：本实用新型公开一种薄膜材料沉积反应装置，包括：气体分布台，用于对膜材表面进行原子层沉积；多个扩散结构，多个扩散结构间隔地设置于气体分布台，每一扩散结构包括第一围环、第二围环以及第三围环，第一围环、第二围环以及第三围环依次间隔地设于气体分布台，第二围环位于第一围环的外围，第三围环位于第二围环的外围；第一围环内侧的空间与反应气体气源连通，第一围环和第二围环之间的空间抽气装置连通，第二围环与第三围环之间的空间与惰性气体气源连通。本实用新型提出的薄膜材料沉积反应装置能够避免反应剩余的前驱体或反应物弄脏薄膜材料沉积反应装置。

主权项：1.一种薄膜材料沉积反应装置，其特征在于，所述薄膜材料沉积反应装置包括：气体分布台，用于对膜材表面进行原子层沉积；和多个扩散结构，多个所述扩散结构间隔地设置于所述气体分布台，每一所述扩散结构包括第一围环、第二围环以及第三围环，所述第一围环、所述第二围环以及所述第三围环依次间隔地设于所述气体分布台，所述第二围环位于所述第一围环的外围，所述第三围环位于所述第二围环的外围；所述第一围环内侧的空间与反应气体气源连通，所述第一围环和所述第二围环之间的空间与抽气装置连通，所述第二围环与第三围环之间的空间与惰性气体气源连通；所述反应气体气源用于向所述第一围环内侧的空间内充入反应气体，所述抽气装置用于抽离所述第一围环内侧空间以及所述第二围环和所述第三围环之间的空间内的气体，所述惰性气体气源用于向所述第二围环与第三围环之间的空间内充入惰性气体。

全文数据：

权利要求：

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