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【实用新型】定位测量装置、定位调节装置以及激光系统_极光先进雷射株式会社_202021080449.0 

申请/专利权人:极光先进雷射株式会社

申请日:2020-06-12

公开(公告)日:2021-01-12

公开(公告)号:CN212341675U

主分类号:G03F7/20(20060101)

分类号:G03F7/20(20060101)

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2021.01.12#授权

摘要:本申请实施例提供一种定位测量装置、定位调节装置以及激光系统。所述定位测量装置包括:第1部件,其具有供入射的激光通过的第1开口,并使所述入射的激光的光束直径减小并且输出所述激光;第1光学元件,其对所述激光的至少一部分进行反射;第2部件,其被配置在所述第1部件与所述第1光学元件之间,具有供所述激光通过的第2开口;第2光学元件,其将所述第1光学元件反射的所述激光朝向所述第1光学元件进行反射;以及测量部,其对在所述第2部件上生成的光的位置进行测量。由此,能够容易地提高定位的测量精度,而不必扩大激光系统内的空间或者不必使用高灵敏度的光传感器。

主权项:1.一种定位测量装置,其特征在于,所述定位测量装置包括:第1部件,其具有供入射的激光通过的第1开口,使所述入射的激光的光束直径减小并且输出所述激光;第1光学元件,其对所述激光的至少一部分进行反射;第2部件,其被配置在所述第1部件与所述第1光学元件之间,具有供所述激光通过的第2开口;第2光学元件,其将所述第1光学元件反射的所述激光朝向所述第1光学元件进行反射;其中,反射回所述第1光学元件的所述激光朝向所述第2部件照射,并且所述第2部件对来自所述第1光学元件的所述激光产生反应并生成波长与所述激光不同的光;以及测量部,其对在所述第2部件上生成的光的位置进行测量。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 极光先进雷射株式会社 定位测量装置、定位调节装置以及激光系统

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