申请/专利权人：苏州众为光电有限公司

申请日：2020-09-29

公开（公告）日：2021-01-15

公开（公告）号：CN112230322A

主分类号：G02B5/28(20060101)

分类号：G02B5/28(20060101);C23C14/08(20060101);C23C14/10(20060101);C23C14/06(20060101);C23C14/54(20060101)

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2023.04.07#授权;2021.02.02#实质审查的生效;2021.01.15#公开

摘要：本发明提供一种插损线性变化的带通滤光片的制备方法，包括：切割基层成型；镀前对基层进行超声波清洗；进行膜系设计；其中，膜系设计中堆叠在基层上的膜系的膜系结构包括若干个法布里‑帕罗腔及连接层，每个法布里‑帕罗腔通过连接层级联下一个法布里‑帕罗腔，连接层为非四分之一波长的光学厚度的低折射率层；根据膜系设计对每一膜层进行膜层厚度控制并镀膜；对镀制好的带通滤光片进行测试得到合格的带通滤光片。本发明能够制备插损线性变化的带通滤光片，该带通滤光片具备常规的滤光功能以外，该带通滤光片的通带插损或透过率具有线性变化，在通带内实现了在特定的波长范围内插损随波长是线性变化的，在特定的波长范围内实现波长识别的功能。

主权项：1.一种插损线性变化的带通滤光片的制备方法，其特征在于，包括：切割基层成型；其中基层采用折射率在1304.5-1317nm的范围为1.45至3.5的材料；镀前对基层进行超声波清洗；根据带通滤光片的目标性能进行膜系设计；其中，所述膜系设计中堆叠在所述基层上的膜系的膜系结构包括若干个法布里-帕罗腔及连接层，每个所述法布里-帕罗腔包括高折射率膜层和低折射率膜层交替堆叠；每个所述法布里-帕罗腔通过连接层级联下一个所述法布里-帕罗腔，所述连接层为非四分之一波长的光学厚度的低折射率层；根据膜系设计对每一膜层进行膜层厚度控制并镀膜；对镀制好的带通滤光片进行测试，得到合格的带通滤光片。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 苏州众为光电有限公司 一种插损线性变化的带通滤光片的制备方法

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