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【发明公布】一种强阴离子型固相萃取柱填料及其制备方法_上海安谱实验科技股份有限公司_201910647836.3 

申请/专利权人:上海安谱实验科技股份有限公司

申请日:2019-07-17

公开(公告)日:2021-01-19

公开(公告)号:CN112237898A

主分类号:B01J20/10(20060101)

分类号:B01J20/10(20060101);B01J20/22(20060101);B01J20/30(20060101);B01D15/08(20060101);B01D15/36(20060101)

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2022.08.30#授权;2021.02.26#实质审查的生效;2021.01.19#公开

摘要:本发明公开了一种强阴离子型固相萃取柱填料及其制备方法,该制备方法包括以下步骤:将硅胶与季铵硅烷试剂进行一步反应,在硅胶基质的表面键合季铵盐基团,从而制备所述强阴离子型固相萃取柱填料。本发明的制备过程简单,工艺路线短,填料的稳定性好,重现性好,易于大批量生产,由于在全pH范围内离子填料上键合的季铵基团均可完全解离,始终带有正电荷,故填料表面季铵基团的键合率也可以任意调控,对各类阴离子都有很好的保留性能,适用范围广。在对食品添加剂中的山梨酸,苯甲酸进行回收率的应用测试时,数据显示回收率均达到95%以上。

主权项:1.一种强阴离子型固相萃取柱填料的制备方法,其特征在于,将硅胶和有机硅烷进行一步反应,在硅胶基质的表面键合有机硅烷,所述有机硅烷为季铵硅烷,所述季铵硅烷的化学结构通式为:R23-Si-CH2n-N+-R13其中,R1为C1~4的烷基;R2为反应活性基团;n为1~7的整数。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 上海安谱实验科技股份有限公司 一种强阴离子型固相萃取柱填料及其制备方法

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