申请/专利权人：东京毅力科创株式会社

申请日：2020-07-10

公开（公告）日：2021-01-19

公开（公告）号：CN112239859A

主分类号：C23C16/455(20060101)

分类号：C23C16/455(20060101);C23C16/52(20060101);C23C16/40(20060101);H01L21/02(20060101)

优先权：["20190717 JP 2019-132099"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2021.12.24#实质审查的生效;2021.01.19#公开

摘要：本发明提供基板处理装置和基板处理方法。该基板处理装置抑制在设于处理容器内部的喷射器旋转时产生颗粒，具有：处理容器；喷射器，设于处理容器内部，呈沿长度方向延伸的形状，供给处理气体；保持架，固定于喷射器；风车，固定于保持架；第1驱动用气体供给部，供给使风车向一方向旋转的驱动用气体；第2驱动用气体供给部，供给使风车向与一方向相反的另一方向旋转的驱动用气体；驱动用气体控制部，控制第1驱动用气体供给部和第2驱动用气体供给部的驱动用气体的供给，利用驱动用气体控制部的控制，自第1驱动用气体供给部和第2驱动用气体供给部中的至少一者供给驱动用气体使风车旋转，而使喷射器以长度方向为轴线旋转。

主权项：1.一种基板处理装置，其中，该基板处理装置具有：处理容器；喷射器，其设于所述处理容器的内部，呈沿长度方向延伸的形状，用于供给处理气体；保持架，其固定于所述喷射器；风车，其固定于所述保持架；第1驱动用气体供给部，其供给使所述风车向一方向旋转的驱动用气体；第2驱动用气体供给部，其供给使所述风车向与所述一方向相反的另一方向旋转的驱动用气体；以及驱动用气体控制部，其控制所述第1驱动用气体供给部的驱动用气体的供给和所述第2驱动用气体供给部的驱动用气体的供给，通过利用所述驱动用气体控制部的控制，自所述第1驱动用气体供给部和所述第2驱动用气体供给部中的至少一者供给驱动用气体来使所述风车旋转，从而使所述喷射器以所述长度方向为轴线旋转。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 东京毅力科创株式会社 基板处理装置和基板处理方法

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